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Chapitre V : Les dépôts 255
La microstructure que l’on peut observer présente principalement des porosités avec
une quasi absence de structure lamellaire due à une croissance colonnaire entre les différentes
couches déposées induite par une température pendant la projection non contrôlée mais
évaluée par la suite à 600°C. Cette microstructure est similaire à celles des dépôts élaborés par
projection par plasma d’arc sous vide partiel à une distance de 175 mm.
V.2.3 Conclusions :
L’étude de la microstructure des dépôts projetés par plasma sous vide partiel et à la
pression atmosphérique met en évidence deux types de microstructures prépondérantes.
L’une est lamellaire et présente peu de porosité comme sur la Figure V-4, on retrouve
cette structure pour les dépôts élaborés à la pression atmosphérique avec les conditions de
projection optimisées dans le chapitre III et pour les dépôts élaborés sous vide partiel avec les
conditions de référence.
L’autre type de structure que l’on peut observer présente principalement des porosités
avec une absence de structure lamellaire due à une croissance colonnaire entre les différentes
couches déposées induite par une température pendant la projection de l’ordre de 500°C
comme sur la Figure V-8. Cette structure se retrouve essentiellement sur les dépôts élaborés
par projection par plasma d’arc sous vide partiel et par projection par plasma inductif
supersonique car alors les lamelles sont pratiquement deux fois plus fines celles obtenues à la
pression atmosphérique.
Il s’agit désormais de voir l’influence de ces deux types de microstructure sur la
porosité totale, mesurée par poussée hydrostatique, des dépôts et sur les propriétés de
conductivité ionique. L’analyse microstructurale effectuée n’étant que bidimensionnelle.
V.3 Influence de la microstructure des dépôts sur la porosité
totale et la conductivité ionique :
V.3.1 Porosité totale :
Le Tableau V-1 indique l’ensemble des dépôts élaborés, leur épaisseur moyenne et la
porosité ouverte, mesurée par poussée hydrostatique qui leur est associée.