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252 Chapitre V : Les dépôts
(température de dépôt comprise entre 400 et 600°C malgré un refroidissement du substrat par
une circulation d’eau glacée et l’utilisation de « windjets »).
b) Influence de la nature du mélange plasmagène :
10 µm
Figure V-9 : Coupe d’un dépôt de YSZ réalisé par projection par plasma d’arc sous vide
partiel avec un mélange de gaz plasmagène Ar-He-H2 (24-28,5-7,5 NL/min) à une distance de
175 mm, une tuyère Mach 2,5, une injection interne, avec « windjets » et une vitesse
d’éclairement de 600mm/s sur un substrat en acier inoxydable préchauffé à 150°C à 8 kPa,
température du dépôt pendant le tir 400-450°C
Les dépôts présentés sur la Figure V-8 et la Figure V-9 sont réalisés avec les mêmes
conditions de projection pour deux mélanges plasmagènes différents. D’un point de vue
microstructural, à 175 mm, l’utilisation du mélange Ar-He-H2 optimisé lors de l’étude des
particules en vol sous vide partiel à la place d’un mélange Ar-H2, ne se traduit pas par un
changement visible de la microstructure. Seule l’étude de la porosité totale et de la
conductivité ionique peut permettre d’émettre des conclusions supplémentaires.