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Chapitre V : Les dépôts 239
V Les dépôts
V.1 Introduction :
La compacité et la structure des dépôts obtenus par projection plasma dépend en
majeure partie du mode d’étalement des particules sur le substrat, lui-même étant fortement
dépendant des propriétés thermocinétiques des particules à l’impact et des propriétés du
substrat.
Or l’étude menée sur l’optimisation des paramètres de projection plasma qui a fait
l’objet des deux chapitres précédents, a permis d’obtenir des particules à l’impact ayant des
vitesses moyennes et températures de surface moyennes différentes dépendant essentiellement
du procédé utilisé (plasma d’arc à la pression atmosphérique ou sous vide partiel et plasma
inductif supersonique), menant à l’obtention de particules étalées présentant des
caractéristiques différentes sur des substrats de même nature avec une température de
préchauffage quasiment identique.
Il s’agit désormais de relier les propriétés des particules avant impact à la
microstructure des dépôts et de corréler ensuite qualitativement celle-ci en terme de
compacité, de contacts interlamellaires, et de formes de porosité à la porosité ouverte totale et
à la conductivité ionique.
Ce chapitre traite donc des différentes analyses effectuées sur les dépôts élaborés à
l’aide des paramètres de projection optimisés grâce à l’étude de la vitesse et la température de
surface des particules à l’impact.
La première partie de ce chapitre se propose de relier les propriétés thermocinétiques
des particules avant l’impact à la microstructure des dépôts par le biais de l’analyse
qualitative de la forme des porosités, de la compacité du dépôt et de la nature des contacts
interlamellaires.
La deuxième partie traite de la relation qu’il peut y avoir entre la microstructure
préalablement analysée et la porosité totale ainsi que la conductivité ionique.