Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre II : Réalisation d’un dépôt céramique par projection plasma – Revue bibliographique
Des contraintes structurelles. Elles peuvent être catastrophiques, car engendrées par
des changements de phases du matériau accompagnés par une variation de volume et
doivent donc être évitées.
Des contraintes dues au gradient de température au sein du dépôt. Pour les limiter,
il est nécessaire de réaliser des passes de faible épaisseur.
La résultante de l’ensemble de ces contraintes est appelée contraintes résiduelles.
B.4.3.1.3. Flux thermique
Le flux thermique apporté par le plasma est également un paramètre important de la
construction d’un revêtement par projection plasma. Ce flux est d’autant plus élevé que la
distance torche-substrat diminue. Pour éviter la destruction du revêtement due à une élévation
trop importante de la température, les paramètres cinématiques torche-substrat et le
refroidissement du substrat doivent être adaptés aux conditions opératoires de la torche.
Figure B.4-21 : Flux thermique apporté au substrat en fonction de la distance de
projection pour une torche PT-F4 de diamètre interne de tuyère 7 mm et de puissance
27 kW, avec un mélange Ar-H2 (25% vol.) [105].
B.4.3.2. Cas de la projection de suspension
Les mécanismes de construction d’un revêtement par la projection plasma de suspension sont
en grande part identiques à ceux de la projection conventionnelle, hormis l’échelle de la
structure. Le dépôt est constitué par l’empilement successif de particules plus ou moins
fondues à l’impact sur le substrat. Cependant, la taille de surface des gouttes joue un rôle plus
important lors de l’impact.
Pour un dépôt de zircone yttriée, Bacciochini et al. (2009) [163] ont montré que la structure
était constituée d’abord d’un film à croissance colonnaire de quelques centaines de
nanomètres, puis d’une structure globulaire (cf. Figure B.4-22)
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