Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre II : Réalisation d’un dépôt céramique par projection plasma – Revue bibliographique
Substrat = température ambiante Tsubstrat = 673 K
Figure B.4-15 : Morphologie d’un splat de zircone yttriée (8% en masse) en fonction de
la température du substrat [148].
Cette température est caractéristique du couple substrat-dépôt [149]. Elle a été estimé à 150-
200°C pour de la zircone projetée sur un substrat en acier inoxydable [150]. Cependant, si le
préchauffage du substrat dure trop longtemps ou que la température excède une certaine
valeur il est possible d’observer de nouveau des particules déchiquetées en surface du
substrat. Ce phénomène d’explique par l’oxydation de la surface du substrat qui nuit à
l’étalement des particules.
Plusieurs explications ont été apportées pour expliquer cette température de transition en
particulier une amélioration de la mouillabilité [148] du substrat vis-à-vis du matériau liquide
et la désorption et évaporation des adsorbats et condensats [151], [152].
B.4.2.2.2. Influence de la rugosité du substrat sur
l’étalement
Moreau et al (1995) [153] a montré que le facteur d’étalement ξ était multiplié par deux dans
le cas d’une surface lisse (Ra = 0,02 µm) par rapport à une surface rugueuse (Ra = 9,2 µm)
pour une goutte de molybdène liquide de 32 à 45 µm. La même observation a été faite par
Bianchi (1995) [50] pour une particule de zircone étalée sur une surface d’acier inoxydable
(cf. Figure B.4-16).
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