Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre II : Réalisation d’un dépôt céramique par projection plasma – Revue bibliographique
Figure B.3-3 : Représentation schématique du procédé EDM [66].
La maîtrise des paramètres de ce procédé permet la décontamination de la surface et la
création d’une rugosité de surface adaptée à la projection thermique (cf. Figure B.3-4).
a. b.
Figure B.3-4 : Effet des paramètres du procédé EDM sur la rugosité de surface : durée
du pulse (a.) et intensité du courant d’arc (b.) [67].
Enfin une autre technique est basée sur la maîtrise de la croissance de la couche d’oxyde à la
surface du substrat pour faciliter la continuité cristallographie, et ainsi l’adhérence dite
« cristallographique » entre le substrat et un revêtement de céramique oxyde. Valette (2005)
[51] a ainsi montré la possibilité de réaliser un revêtement plasma d’alumine fortement
adhérent sur un substrat C40E sans avoir recours aux techniques de préparation de surface
classiques. Pour ce faire, le substrat est pré-oxydé, avant la réalisation du dépôt d’alumine,
sous une atmosphère contrôlée de CO2 afin d’assurer la croissance d’un couche de wüstite
Fe1-xO à la surface (cf. Figure B.3-5).
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