Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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- 24 - Liste des tables Tableau D.3-4 : Contraintes caractéristiques de l’adhérence et de cohésion d’un revêtement en fonction du mode de réalisation.........................................................- 187 - Tableau D.3-5 : Contraintes caractéristiques de l’adhérence et de la cohésion du revêtement en fonction de la rugosité de surface du substrat....................................- 188 - Tableau D.4-1 : Evolution de paramètres de rugosité lors du préchauffage du substrat ..- 190 - Tableau E.2-1 : Conditions de projection de la couche supérieure microstructurée du système bicouche.......................................................................................................- 202 - Tableau E.2-2 : Porosité ouverte et fermée de la couche supérieure pour les conditions de projection présentées dans le Tableau E.2-1. .......................................................- 206 - Tableau E.2-3 : Epaisseur de sous-couche érodée pour les différentes conditions de projection de la couche supérieure. Epaisseur initiale de la sous couche : 60 µm....- 209 - Tableau E.2-4 : Dureté Vickers de la couche microstructurée pour les paramètres de projection présentés dans le Tableau E.2-1. Température de préchauffage de la sous-couche : 200°C..................................................................................................- 213 - Tableau E.2-5 : Influence de la granulométrie de la poudre et du mode de réalisation de la couche sur sa dureté. .............................................................................................- 214 - Tableau E.2-6 : Variation de la chaleur spécifique et de la masse volumique de la zircone avec la température. Valeurs issues de la littérature pour la zircone massive. .....................................................................................................................- 215 -
AES Accronymes Atomic Emission Spectrometry – Spectrométie d’émission atomique AFM Atomic Force Microscopy – Microscope à force atomique AISI American Iron and Steel Institute APS Atmospheric Plasma Spraying – Projection plasma sous atmosphère CCD Charge-Coupled Device – Dispositif à transfert de charge - 25 - Accronymes CEA Commissariat à l’Energie Atomique et aux Energies Alternatives CVD Chemical Vapor Deposition – Dépôt chimique en phase vapeur DC Direct Current – Courant direct DOE Department Of Energie – Département à l’énergie (Etats-Unis) DRX Diffraction des Rayons X EDM Electrical Discharge Machining – Usinage par décharge électrique EDS Energy-Dispersive X-ray Spectroscopy – Analyse dispersive en énergie EPuR Evacuation de la Puissance Résiduelle ESCA Electron Spectroscopy for Chemical Analysis – Analyse chimique par spectroscopie d’électron FEG Field Emission Gun – Canon à émission de champs
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