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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Liste des figures<br />

Figure D.4-5 : Clichés de diffraction obtenus dans le substrat et le <strong>revêtement</strong>...............- 193 -<br />

Figure D.4-6 : Cliché MET haute résolution de l’interface <strong>céramique</strong>-métal. .................- 194 -<br />

Figure D.4-7 : Cartographie chimique réalisé <strong>par</strong> EDS en microscopie électronique en<br />

transmission à balayage. ...........................................................................................- 196 -<br />

Figure D.4-8 : Evolution de la composition chimique lors d’un déplacement de<br />

l’analyse EDS du cœur du substrat vers le <strong>revêtement</strong>.............................................- 197 -<br />

Figure E.2-1 : Représentation vitesse-température des <strong>par</strong>ticules (poudre Medicoat 22-<br />

45µm) à l’impact pour les conditions de <strong>projection</strong> présentées dans le Tableau<br />

E.2-1..........................................................................................................................- 202 -<br />

Figure E.2-2 : Distribution spatiale du flux de <strong>par</strong>ticules pour différents mélanges de<br />

gaz <strong>plasma</strong>gène et distances de <strong>projection</strong>. ..............................................................- 203 -<br />

Figure E.2-3 : Etalement d’une <strong>par</strong>ticule de zircone micrométrique <strong>sur</strong> la <strong>sur</strong>face d’un<br />

<strong>revêtement</strong> de zircone nanostructurée pour différentes température de la sous<br />

couche. ......................................................................................................................- 204 -<br />

Figure E.2-4 : Analyse DRX de la sous couche nanostructurée et de la couche<br />

microstructurée. Cette dernière a été réalisée avec 2 mélanges de gaz :<br />

Ar-H2 et Ar-H2-He ....................................................................................................- 205 -<br />

Figure E.2-5 : Evolution de la structure de la sous-couche après dépôt de la couche<br />

supérieure..................................................................................................................- 207 -<br />

Figure E.2-6 : Variation de l’adhérence du système bicouche avec l’épaisseur de la<br />

sous-couche nanostructurée pour les deux mélanges de gaz <strong>plasma</strong>gènes étudiés à<br />

une distance de <strong>projection</strong> de 100 mm et une température de préchauffage de<br />

200°C. .......................................................................................................................- 208 -<br />

Figure E.2-7 : Rupture adhésive entre les deux couches de zircone. Couche supérieure<br />

réalisée avec un mélange de gaz Ar/H2 et une température de préchauffage de le<br />

sous-couche de 200°C...............................................................................................- 209 -<br />

Figure E.2-8 : Influence de la distance de <strong>projection</strong> de la couche supérieure <strong>sur</strong><br />

l’adhérence du bicouche pour les deux mélanges de gaz <strong>plasma</strong>gènes étudiés.<br />

Epaisseur de la sous-couche : 60 µm........................................................................- 210 -<br />

Figure E.2-9 : Micrographie de l’interface entre les 2 couches de zircone montrant des<br />

fis<strong>sur</strong>es entre les lamelles à proximité de l’interface. Température de la souscouche<br />

avant et pendant le tir : 200°C. .....................................................................- 211 -<br />

Figure E.2-10 : Micrographie de l’interface du système bicouche. Température de<br />

préchauffage de la sous-couche : 400°C...................................................................- 212 -<br />

Figure E.2-11 : Variation de l’adhérence du bicouche avec la poudre utilisée, son mode<br />

de réalisation et la température de déposition...........................................................- 213 -<br />

Figure E.2-12 : Diffusivité des différentes couches me<strong>sur</strong>ées <strong>par</strong> méthode flash en face<br />

arrière. La couche microstructurée a été réalisée avec un mélange de gaz<br />

<strong>plasma</strong>gène binaire à une distance de <strong>projection</strong> de 100 mm...................................- 214 -

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