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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre V : Le système bicouche, solution innovante pour l’optimisation de l’adhérence<br />

E.1. Introduction<br />

Le <strong>revêtement</strong> épais nécessaire pour répondre au mieux au cahier des charges de l’application<br />

a été défini comme un système bicouche, composé d’une sous-couche nanostructurée de<br />

zircone yttriée, et d’une couche microstructurée de zircone yttriée. La couche nanostructurée<br />

sert de couche de liaison entre le substrat Haynes ® 230 lisse et la couche microstructurée. Sa<br />

construction et son adhérence ont été étudiées dans le chapitre précédent.<br />

Ce chapitre est dédié à l’étude du système bicouche. Il s’intéresse d’abord à établir des<br />

relations entre les <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong> et les différentes microstructures constituant le<br />

système, puis à étudier l’évolution de son adhérence et de ses propriétés mécaniques (dureté,<br />

module d’Young) et thermiques (diffusivité thermique me<strong>sur</strong>ée et conductivité thermique<br />

calculée). Ensuite, le vieillissement des systèmes bicouches présentant les « meilleures<br />

propriétés » est étudié. Il consiste à placer les dépôts dans un four à atmosphère contrôlée et<br />

à observer les évolutions de leur microstructure et de leurs propriétés dans des conditions<br />

proches de celles de l’usage envisagé.<br />

E.2. Mise au point et optimisation du système<br />

bicouche<br />

La mise au point du système bicouche passe <strong>par</strong> la compréhension des mécanismes de<br />

construction et de liaison entre les deux couches. Une étude <strong>par</strong>amétrique a d’abord été menée<br />

pour étudier l’influence des <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong> <strong>sur</strong> la microstructure de la couche<br />

supérieure, son adhérence et ses propriétés mécaniques et thermiques.<br />

E.2.1. Choix des <strong>par</strong>amètres de tir et évolution de la<br />

microstructure<br />

E.2.1.1. Paramètres de <strong>projection</strong><br />

Les mélanges de gaz <strong>plasma</strong>gènes utilisés ont été choisis pour obtenir une diversité dans le<br />

traitement thermocinétique des <strong>par</strong>ticules avant leur impact <strong>sur</strong> la couche de zircone<br />

nanostructurée et ainsi favoriser des microstructures de dépôt relativement différentes. En se<br />

basant <strong>sur</strong> l’étude menée <strong>par</strong> V. Debout (2007) [44], deux mélanges de gaz <strong>plasma</strong>gènes, et<br />

plusieurs distances de tir ont été retenus. Ils sont présentés dans le Tableau E.2-1.<br />

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