Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...
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Liste des figures<br />
Figure D.2-24 : Microstructure de la couche pour deux lots de poudre. ..........................- 172 -<br />
Figure D.2-25 : Variation des propriétés mécaniques des couches avec le taux de<br />
charge de la suspension.............................................................................................- 173 -<br />
Figure D.2-26 : Image utilisée pour la me<strong>sur</strong>e de la taille des grains formant la structure<br />
et technique de seuillage utilisée pour me<strong>sur</strong>er la porosité. Cas d’une suspension<br />
chargée à 6 %............................................................................................................- 174 -<br />
Figure D.2-27 : Particules nanométrique collectées <strong>sur</strong> un substrat Haynes ® 230 poli,<br />
préchauffé à 400°C, pour différents taux de charge de la suspension. .....................- 175 -<br />
Figure D.3-1 : Me<strong>sur</strong>e de l’adhérence <strong>par</strong> scratch test : Influence de l’épaisseur de la<br />
couche. ......................................................................................................................- 176 -<br />
Figure D.3-2 : Relation entre la distance d’indentation et la longueur de fis<strong>sur</strong>e.<br />
Paramètres <strong>plasma</strong> : poudre 2YSZ, taux de charge de 6% en masse, préchauffage<br />
du substrat à 200°C, couche de 30 µm d’épaisseur. .................................................- 177 -<br />
Figure D.3-3 : Phénomènes observés lors de la rupture de la couche déduits des<br />
résultats obtenus avec la technique d’indentation Vickers. ......................................- 178 -<br />
Figure D.3-4 : Représentation bi-logarithmique de la variation de la distance<br />
caractéristique de l’adhérence, Zadh, avec la charge appliquée. ................................- 179 -<br />
Figure D.3-5 : Représentation bi-logarithmique de la variation de la distance<br />
caractéristique de la cohésion de la couche, Zcoh, en fonction de la charge<br />
appliquée...................................................................................................................- 180 -<br />
Figure D.3-6 : Représentation schématique des distances d’indentation caractéristiques<br />
en fonction du rayon de déformation plastique autour de l’indentation définie<br />
selon Lawn................................................................................................................- 181 -<br />
Figure D.3-7 : Influence de la température de préchauffage du substrat <strong>sur</strong> l’adhérence<br />
de la couche pour 2 lots de poudres. Représentation <strong>sur</strong> un diagramme bilogarithmique.<br />
...........................................................................................................- 182 -<br />
Figure D.3-8 : Influence du taux de charge <strong>sur</strong> l’adhérence de la couche. .......................- 184 -<br />
Figure D.3-9 : Image MEB d’un dépôt de zircone réalisé avec un taux de charge de<br />
suspension de 20% en masse. Relaxation des contraintes et fis<strong>sur</strong>ation à<br />
l’interface. .................................................................................................................- 184 -<br />
Figure D.3-10 : Influence de l’épaisseur du <strong>revêtement</strong> <strong>sur</strong> l’adhérence de la couche.....- 185 -<br />
Figure D.3-11 : Influence du mode de réalisation de la couche <strong>sur</strong> l’adhérence. .............- 186 -<br />
Figure D.3-12 : Influence de la rugosité de <strong>sur</strong>face du substrat <strong>sur</strong> l’adhérence du<br />
<strong>revêtement</strong> déposé.....................................................................................................- 187 -<br />
Figure D.4-1 : Vue AFM d’un substrat Haynes 230 poli, a. Non préchauffé, b.<br />
Préchauffé à 400°C, Préchauffé à 850°C..................................................................- 190 -<br />
Figure D.4-2 : Etude XPS de la <strong>sur</strong>face d’un substrat avant et après préchauffé à<br />
400°C. .......................................................................................................................- 191 -<br />
Figure D.4-3 : Spectre XPS de la <strong>sur</strong>face du substrat avant et après préchauffage. .........- 192 -<br />
Figure D.4-4 : Interface couche/substrat observée en MET..............................................- 193 -