Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

- 20 -
Liste des figures
Figure D.2-24 : Microstructure de la couche pour deux lots de poudre. ..........................- 172 -
Figure D.2-25 : Variation des propriétés mécaniques des couches avec le taux de
charge de la suspension.............................................................................................- 173 -
Figure D.2-26 : Image utilisée pour la mesure de la taille des grains formant la structure
et technique de seuillage utilisée pour mesurer la porosité. Cas d’une suspension
chargée à 6 %............................................................................................................- 174 -
Figure D.2-27 : Particules nanométrique collectées sur un substrat Haynes ® 230 poli,
préchauffé à 400°C, pour différents taux de charge de la suspension. .....................- 175 -
Figure D.3-1 : Mesure de l’adhérence par scratch test : Influence de l’épaisseur de la
couche. ......................................................................................................................- 176 -
Figure D.3-2 : Relation entre la distance d’indentation et la longueur de fissure.
Paramètres plasma : poudre 2YSZ, taux de charge de 6% en masse, préchauffage
du substrat à 200°C, couche de 30 µm d’épaisseur. .................................................- 177 -
Figure D.3-3 : Phénomènes observés lors de la rupture de la couche déduits des
résultats obtenus avec la technique d’indentation Vickers. ......................................- 178 -
Figure D.3-4 : Représentation bi-logarithmique de la variation de la distance
caractéristique de l’adhérence, Zadh, avec la charge appliquée. ................................- 179 -
Figure D.3-5 : Représentation bi-logarithmique de la variation de la distance
caractéristique de la cohésion de la couche, Zcoh, en fonction de la charge
appliquée...................................................................................................................- 180 -
Figure D.3-6 : Représentation schématique des distances d’indentation caractéristiques
en fonction du rayon de déformation plastique autour de l’indentation définie
selon Lawn................................................................................................................- 181 -
Figure D.3-7 : Influence de la température de préchauffage du substrat sur l’adhérence
de la couche pour 2 lots de poudres. Représentation sur un diagramme bilogarithmique.
...........................................................................................................- 182 -
Figure D.3-8 : Influence du taux de charge sur l’adhérence de la couche. .......................- 184 -
Figure D.3-9 : Image MEB d’un dépôt de zircone réalisé avec un taux de charge de
suspension de 20% en masse. Relaxation des contraintes et fissuration à
l’interface. .................................................................................................................- 184 -
Figure D.3-10 : Influence de l’épaisseur du revêtement sur l’adhérence de la couche.....- 185 -
Figure D.3-11 : Influence du mode de réalisation de la couche sur l’adhérence. .............- 186 -
Figure D.3-12 : Influence de la rugosité de surface du substrat sur l’adhérence du
revêtement déposé.....................................................................................................- 187 -
Figure D.4-1 : Vue AFM d’un substrat Haynes 230 poli, a. Non préchauffé, b.
Préchauffé à 400°C, Préchauffé à 850°C..................................................................- 190 -
Figure D.4-2 : Etude XPS de la surface d’un substrat avant et après préchauffé à
400°C. .......................................................................................................................- 191 -
Figure D.4-3 : Spectre XPS de la surface du substrat avant et après préchauffage. .........- 192 -
Figure D.4-4 : Interface couche/substrat observée en MET..............................................- 193 -