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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée<br />

Les <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong> permettant d’as<strong>sur</strong>er de bonnes propriétés et une bonne<br />

reproductibilité de la couche nanostructuréee qui doit as<strong>sur</strong>er le lien entre le substrat et une<br />

couche épaisse (environ 500 µm) microstructurée du même matériau, ayant été déterminés, le<br />

chapitre suivant est consacré à la réalisation et à l’étude de ce système bicouche.<br />

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