Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Nombre de coups
Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
16
14
12
10
8
6
4
2
0
0 14,2 28,3 42,5 56,6 70,8 85 99,1 113,3
Distance (µm)
Figure D.4-8 : Evolution de la composition chimique lors d’un déplacement de l’analyse
EDS du cœur du substrat vers le revêtement.
D.5. Conclusion
La maitrise de la croissance et de l’adhérence d’un revêtement céramique réalisé par
projection de suspension sur un substrat métallique repose sur la maitrise de plusieurs phases
relativement similaires à celles bien connues déjà en projection plasma conventionnelle. Les
principales phases sont les suivantes:
Injection et traitement du matériau dans le jet de plasma : maitrise de l’injection et de
la fragmentation de la suspension dans le jet de plasma, maitrise des paramètres
énergétiques du plasma….
Paramètres propres à la surface à revêtir : nature, rugosité, température avant, pendant
et après déposition, chimie de surface (propreté, oxydation…).
impact, étalement et empilement des particules sur la cible : maitrise du taux de charge
de la suspension, des contraintes résiduelles….
Dans notre étude sur l’adhérence d’un revêtement nanostructuré de zircone yttriée sur un
substrat Haynes ® 230, aucun des mécanismes habituellement admis n’a pu être mis en
évidence (ancrage mécanique, continuité cristallographique, diffusion). Cependant, le flux
thermique apporté par le plasma favorisant la croissance d’une couche d’oxyde à la surface
du substrat, il est possible qu’un accroissement de la mouillabilité goutte céramique/surface
oxydée explique l’adhérence. De plus, la liaison de type oxyde-oxyde est plus simple à
réaliser et l’apparition de liaisons chimiques au travers des atomes d’oxygène ne sont pas à
écarter.
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Ni
Cr
O