Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée Figure D.4-3 : Spectre XPS de la surface du substrat avant et après préchauffage. D.4.1.3. Conclusion Le préchauffage de la surface du substrat avant projection engendre plusieurs phénomènes. Tout d’abord, une décontamination de la surface par la désorption des absorbats et condensats qui pourraient nuire à l’étalement des particules fondues à l’impact. Egalement, une oxydation de la surface. Il faut noter que cette oxydation apparait à 400 °C bien que l’Haynes ® 230 est supposé ne pas s’oxyder en dessous de 650°C. L’analyse XPS ne révèle que la composition chimique de l’extrême surface de l’échantillon, et le flux thermique apporté par le plasma est très important à de faibles distances de projection (14 MW.m -2 ) et il est possible qu’un oxyde se forme sur quelques nanomètres d’épaisseur. D.4.2. Observation de l’interface : Etude MET L’adhérence d’origine mécanique semble peu intervenir dans le cas d’un revêtement réalisé par projection de suspension sur un substrat lisse. Afin de mieux comprendre ce qui se passe à l’interface couche/substrat, il est nécessaire de l’observer à petite échelle. Pour cela une étude - 192 -
Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée en microscopie électronique à transmission a été menée sur cette zone interfaciale (cf. Figure D.4-4). Figure D.4-4 : Interface couche/substrat observée en MET. Pour s’assurer que l’observation porte sur la bonne zone de l’échantillon, des clichés de diffraction ont été effectués pour révéler l’aspect polycristallin du substrat et l’orientation cristallographique de la zircone (cf. Figure D.4-5). substrat substrat - 193 - revêtement interface zircone Figure D.4-5 : Clichés de diffraction obtenus dans le substrat et le revêtement.
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UNIVERSITE DE LIMOGES ECOLE DOCTORA
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