Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
Figure D.4-2 : Etude XPS de la surface d’un substrat avant et après préchauffé à 400°C.
Avant préchauffage (courbes bleues), les pics métalliques ressortent distinctement à l’analyse
XPS pour le nickel et le chrome respectivement à des énergies de 853,1 et 574,3 eV. Il existe
également un oxyde de chrome à la surface de l’échantillon à une énergie de 577,3 eV [204],
[205].
Après préchauffage à 400°C, les pics correspondant aux métaux disparaissent pour laisser
place à des pics d’oxyde correspondant aux oxydes NiO (854,3 eV) et NiOH2 (856,0 eV) pour
le nickel et à des oxydes non définis à 576,6 et 579,2 eV pour le chrome [204], [205].
L’apparition d’un pic d’oxyde type NiOH2 pour le nickel est très probablement liée à
l’injection d’eau dans plasma lors du préchauffage. En effet, pour ne pas endommager
l’injecteur, il est nécessaire de le refroidir en injectant en permanence un liquide.
De plus, les spectres XPS obtenus sur l’ensemble de la bande d’énergie (cf. Figure D.4-3)
montrent la disparition complète de certains pics (référencée par de flèches rouges),
disparition qui peut être attribuée à l’élimination des condensats et absorbats lors du
préchauffage.
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