Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
a. b.
c.
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Figure D.4-1 : Vue AFM d’un substrat
Haynes 230 poli, a. Non préchauffé, b.
Préchauffé à 400°C, Préchauffé à 850°C.
Les paramètres Ra et Sk (cf. Tableau D.4-1) changent par contre radicalement dans le cas du
préchauffage du substrat à 850°C, et montrent une modification de la topographie de surface
assez prononcée, correspondant très certainement à la croissance de pics d’oxydes.
Température de
préchauffage
25°C 400°C 850°C
Paramètres Ra (nm) 1,69 2,04 26,8
de rugosité Sk 4,32 3,28 33,3
Tableau D.4-1 : Evolution de paramètres de rugosité lors du préchauffage du substrat
D.4.1.2. Etude XPS
Les résultats de l’étude XPS sont présentés sur la Figure D.4-2. L’étude s’est portée
principalement sur les éléments du substrat tel que le nickel et le chrome qui sont présents en
plus grande quantité.