Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...
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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée<br />
Diminuer la rugosité de <strong>sur</strong>face des échantillons bruts permet d'’améliorer l’adhérence de la<br />
couche. Cette observation incite à penser que l’adhérence d’origine mécanique ne joue pas un<br />
rôle essentiel. Il faut aussi noter que le polissage du substrat permet d’éliminer en très grande<br />
<strong>par</strong>tie si pas en totalité les polluants potentiels présents dans la couche de laminage.<br />
La cohésion de la couche est également modifiée (cf. Tableau D.3-5) <strong>par</strong> le polissage. Les<br />
irrégularités de la <strong>sur</strong>face du substrat ont, quelle que soit leur échelle, une influence <strong>sur</strong><br />
l’ensemble de la structure des couches. Il est donc nécessaire pour améliorer l’adhérence des<br />
<strong>revêtement</strong>s nanostructurés obtenus <strong>par</strong> <strong>projection</strong> de suspension d’utiliser des substrats les<br />
plus propres possibles avec un minimum d’imperfection de <strong>sur</strong>face.<br />
Rugosité du substrat brut poli<br />
Σadh (MPa) 1390 ± 210 2280 ± 280<br />
Σcoh (MPa) 2340 ± 180 3130 ± 600<br />
Tableau D.3-5 : Contraintes caractéristiques de l’adhérence et de la cohésion du<br />
<strong>revêtement</strong> en fonction de la rugosité de <strong>sur</strong>face du substrat.<br />
D.3.3.6. Conclusion<br />
Cette série d’essais permet de tirer des conclusions <strong>sur</strong> des <strong>par</strong>amètres du procédé de dépôt de<br />
<strong>revêtement</strong>s nanostructurés <strong>par</strong> <strong>projection</strong> de suspension. Les principales conclusions sont les<br />
suivantes :<br />
Les caractéristiques du lot de poudre utilisée (ré<strong>par</strong>tition granulométrique, ….) doivent<br />
être vérifiées,<br />
Le taux de charge de la suspension doit être faible (6% dans nos conditions) pour<br />
obtenir un <strong>revêtement</strong> cohésif possédant une adhérence maximale<br />
La rugosité de la <strong>sur</strong>face du substrat doit être faible pour as<strong>sur</strong>er une construction<br />
homogène de la couche et sa <strong>sur</strong>face aussi propre que possible pour améliorer son<br />
adhérence.<br />
Le substrat doit être porté à une température au moins égale à celle de transition du<br />
couple de matériaux utilisés.<br />
Le mode de réalisation de la couche et son épaisseur n’ont qu’un effet limité lorsque<br />
qu’un refroidissement cryogénique adapté est utilisé. Il en serait certainement tout<br />
autre sans ce type de refroidissement.<br />
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