Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
processus de projection. La cinétique de refroidissement des particules qui s’étalent et celle de
l’ensemble de la couche après projection ne diffèrent donc pas pour les deux modes de
réalisation. La réalisation des couches « épaisses » nanostructurées sera donc effectuée par la
suite en mode « monocouche » afin de faciliter l’industrialisation du procédé et limiter le
nombre d’intervention du manipulateur.
Mode de réalisation
de la couche
Multicouche Monocouche
Σadh (MPa) 1390 ± 210 1360 ± 190
Σcoh (MPa) 2340 ± 180 2290 ± 550
Tableau D.3-4 : Contraintes caractéristiques de l’adhérence et de cohésion d’un
revêtement en fonction du mode de réalisation.
D.3.3.5. Rugosité de surface
Les échantillons bruts de laminage ont une rugosité de 0,5µm et si déposer le revêtement sur
ces échantillons bruts présente un intérêt pour l’industrialisation du procédé, il est cependant
intéressant de se poser la question de l’effet d’une diminution de cette rugosité sur
l’adhérence et la cohésion du revêtement.
Les mesures de nano-indentation sur des revêtements de 60 µm d’épaisseur déposés sur des
substrats bruts et polis (de rugosité moyenne, Ra, de 0,02 µm) sont présentées sur la Figure
D.3-12.
Ln (Z adh), Z adh en mm
-0,5
-1
-1,5
-2
-2,5
-3
-3,5
2 2,5 3 3,5 4 4,5 5 5,5
0
surface polie
surface brut
- 187 -
y = 0,5x - 4,02
ln (L), L en N
y = 0,5x - 3,61
Figure D.3-12 : Influence de la rugosité de surface du substrat sur l’adhérence du
revêtement déposé.