Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...
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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée<br />
processus de <strong>projection</strong>. La cinétique de refroidissement des <strong>par</strong>ticules qui s’étalent et celle de<br />
l’ensemble de la couche après <strong>projection</strong> ne diffèrent donc pas pour les deux modes de<br />
réalisation. La réalisation des couches « épaisses » nanostructurées sera donc effectuée <strong>par</strong> la<br />
suite en mode « monocouche » afin de faciliter l’industrialisation du procédé et limiter le<br />
nombre d’intervention du manipulateur.<br />
Mode de réalisation<br />
de la couche<br />
Multicouche Monocouche<br />
Σadh (MPa) 1390 ± 210 1360 ± 190<br />
Σcoh (MPa) 2340 ± 180 2290 ± 550<br />
Tableau D.3-4 : Contraintes caractéristiques de l’adhérence et de cohésion d’un<br />
<strong>revêtement</strong> en fonction du mode de réalisation.<br />
D.3.3.5. Rugosité de <strong>sur</strong>face<br />
Les échantillons bruts de laminage ont une rugosité de 0,5µm et si déposer le <strong>revêtement</strong> <strong>sur</strong><br />
ces échantillons bruts présente un intérêt pour l’industrialisation du procédé, il est cependant<br />
intéressant de se poser la question de l’effet d’une diminution de cette rugosité <strong>sur</strong><br />
l’adhérence et la cohésion du <strong>revêtement</strong>.<br />
Les me<strong>sur</strong>es de nano-indentation <strong>sur</strong> des <strong>revêtement</strong>s de 60 µm d’épaisseur déposés <strong>sur</strong> des<br />
substrats bruts et polis (de rugosité moyenne, Ra, de 0,02 µm) sont présentées <strong>sur</strong> la Figure<br />
D.3-12.<br />
Ln (Z adh), Z adh en mm<br />
-0,5<br />
-1<br />
-1,5<br />
-2<br />
-2,5<br />
-3<br />
-3,5<br />
2 2,5 3 3,5 4 4,5 5 5,5<br />
0<br />
<strong>sur</strong>face polie<br />
<strong>sur</strong>face brut<br />
- 187 -<br />
y = 0,5x - 4,02<br />
ln (L), L en N<br />
y = 0,5x - 3,61<br />
Figure D.3-12 : Influence de la rugosité de <strong>sur</strong>face du substrat <strong>sur</strong> l’adhérence du<br />
<strong>revêtement</strong> déposé.