Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
Taux de charge de la
suspension (% massique)
- 185 -
6 13 20
Σadh (MPa) 1390 ± 210 690 ± 90 300 ± 50
Σcoh (MPa) 2340 ± 180 2130 ± 120 830 ± 270
Tableau D.3-2 : Contraintes d’adhérence et de cohésion en fonction du taux de charge
de la suspension.
D.3.3.3. Epaisseur de la couche
Les essais d’adhérence ayant été réalisés avec des revêtements d’épaisseur constante, réalisés
avec un taux de charge de suspension de 6 % en masse, ne permettent d’obtenir
d’informations quant à l’épaisseur. Il est donc important d’étudier l’influence de cette dernière
sur l’adhérence de la couche afin de déterminer son épaisseur optimale pour la réalisation du
bicouche constitué de la couche de structure nanométrique surmontée d’une couche épaisse de
structure micrométrique. Les résultats sont présentés sur la Figure D.3-10. Des dépôts avec
des épaisseurs de 30, 60 et 90 µm ont été réalisés. Pour limiter les contraintes résiduelles dans
les couches supérieures à 30µm, la procédure suivante a été adoptée : la projection est arrêtée
lorsque 30 µm ont été déposés afin de laisser la couche revenir à la température ambiante
avant de la re-préchauffer à 400°C et de reprendre la projection.
ln (Z adh), Z adh en mm
-0,5
-1
-1,5
-2
-2,5
2 2,5 3 3,5 4 4,5 5 5,5 6
0
-3
30 µm
60 µm
90 µm
ln (L), L en N
y = 0,5x - 3,61
Figure D.3-10 : Influence de l’épaisseur du revêtement sur l’adhérence de la couche.
Entre 30 et 90µm, l’épaisseur ne semble pas être un facteur déterminant pour l’adhérence de
la couche. Ces épaisseurs sont sans doute suffisamment faibles pour qu’il n’y ait pas
génération de contraintes nuisibles à l’adhérence au sein de la couche. Les phénomènes
thermiques en jeu ne sont pas suffisamment importants. De plus, la cohésion ne varie pas non
plus en fonction de l’épaisseur déposée (cf. Tableau D.3-3). En effet les paramètres de