Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

ln (Zadh), Zadh en mm
Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
-0,5
-1,5
-2,5
2 2,5 3 3,5 4 4,5 5 5,5
0
-1
-2
-3
6%
13%
20%
y = 0,5x - 3,26
ln (L), L en N
- 184 -
y = 0,4768x - 2,7584
y = 0,5x - 3,61
Figure D.3-8 : Influence du taux de charge sur l’adhérence de la couche.
La Figure D.3-9, montre que la réalisation d’un revêtement avec un taux de charge de
suspension élevé entraine une fissuration verticale de la couche, liée aux contraintes
thermiques supérieures. De plus cette fissuration peut entrainer une rupture partielle de
l’interface diminuant l’adhérence de la couche. Ainsi sur la Figure D.3-9 en regard de la
fissuration verticale apparaît une fissure le long de l’interface.
Fissuration
verticale
Fissuration
longitudinale
Figure D.3-9 : Image MEB d’un dépôt de zircone réalisé avec un taux de charge de
suspension de 20% en masse. Relaxation des contraintes et fissuration à l’interface.
Les valeurs reportées dans le Tableau D.3-2, mettent également en évidence une variation de
la cohésion de la couche qui diminue lorsque le taux de charge augmente. Cette variation
peut être reliée à la porosité de la couche qui à tendance à croitre avec le taux de charge de la
suspension. Plus le revêtement est poreux, moins il est cohésif.