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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée<br />

mécaniques me<strong>sur</strong>ées. Une explication possible est l’étalement plus difficile des plus petites<br />

<strong>par</strong>ticules à l’impact à cause de leur forte tension de <strong>sur</strong>face<br />

Lot de poudre 1YSZ 2YSZ<br />

Température de<br />

préchauffage (°C)<br />

200 400 200 400<br />

Σadh (MPa) 520 ± 110 840 ± 230 1040 ± 100 1390 ± 210<br />

Σcoh (MPa) - - 2400 ± 270 2340 ± 180<br />

Tableau D.3-1 : Contraintes d’adhérence et de cohésion pour une évolution de la<br />

température de préchauffage pour deux lots de poudre.<br />

Aucune valeur caractéristique de la cohésion de la couche réalisée à <strong>par</strong>tir de la poudre 1YSZ,<br />

n’a pu être obtenue, la rupture ne permettant pas l’observation d’une déviation de la fis<strong>sur</strong>e à<br />

travers le <strong>revêtement</strong>. Cette différence de cohésion entre les couches réalisées avec les deux<br />

lots de poudre pourrait être expliquée <strong>par</strong> la structure moins lamellaire de la couche obtenue à<br />

<strong>par</strong>tir de la poudre 1YSZ.<br />

Il faut aussi noter que la température de préchauffage ne semble pas avoir d’influence <strong>sur</strong> la<br />

cohésion de la couche réalisée avec la poudre 2YSZ. Les <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong> étant<br />

identiques et la conductivité thermique de la zircone étant faible, la couche se construit de la<br />

même façon et la différence n’intervient qu’à l’interface substrat/dépôt.<br />

D.3.3.2. Taux de charge de la suspension<br />

Une augmentation du taux de charge entraine une diminution du module d’Young et de la<br />

dureté de la structure (cf. D.2.4.2), sans doute à cause de l’accroissement de la taille des<br />

<strong>par</strong>ticules constituant le <strong>revêtement</strong>, ainsi qu’une augmentation de sa porosité. Cependant, elle<br />

permet également de diminuer considérablement le temps de <strong>projection</strong> et faciliterait<br />

l’industrialisation du procédé. Son influence <strong>sur</strong> l’adhérence des <strong>revêtement</strong>s est présentée <strong>sur</strong><br />

la Figure D.3-8 pour des <strong>revêtement</strong>s d’épaisseur constante.<br />

Cependant, l’augmentation du taux de charge de la suspension entraine une diminution de<br />

l’adhérence de la couche. Cette diminution peut s’expliquer <strong>par</strong> une augmentation du taux de<br />

contraintes résiduelles au sein de la couche, notamment lié à des contraintes thermiques plus<br />

importantes dues à un apport supérieure de matière en un même laps de temps.<br />

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