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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée<br />

diagonale de l’empreinte. En conséquence, la charge appliquée correspondant à une fis<strong>sur</strong>e<br />

peut être reliée à une distance d’indentation à une puissance deux.<br />

Figure D.3-4 : Représentation bi-logarithmique de la variation de la distance<br />

caractéristique de l’adhérence, Zadh, avec la charge appliquée.<br />

Les valeurs des pentes des droites passant <strong>par</strong> les points de me<strong>sur</strong>e sont comprises entre 0,46<br />

et 0,60 et une valeur constante de 0,5 a été adoptée pour tous les essais (cf. Figure D.3-4).<br />

L’écart de valeurs <strong>sur</strong> la pente peut s’expliquer en <strong>par</strong>tie <strong>par</strong> la dispersion dans la lecture des<br />

résultats (erreur <strong>sur</strong> la charge, me<strong>sur</strong>e des distances…). Avec ces conditions, la distance<br />

caractéristique d’adhérence Zadh peut être exprimée en fonction de la charge appliquée<br />

selon D–3 :<br />

(D–3)<br />

1 / 2<br />

Zadh = α ⋅ L ou<br />

- 179 -<br />

2<br />

L = β ⋅ Zadh<br />

avec α (ou β = 1<br />

2 ), un coefficient de proportionnalité entre la distance caractéristique<br />

α<br />

d’adhérence et la racine carré de la charge mais correspond également à l’exponentiel de<br />

l’ordonnée à l’origine.<br />

L’adhérence augmente si la droite, obtenue pour un test, est positionnée le plus proche du bas<br />

du graphique et à droite. En conséquence, le coefficient β peut être considéré comme un<br />

<strong>par</strong>amètre représentatif de l’adhérence. Ce coefficient est exprimé dans la même unité qu’une<br />

contrainte. On peut ainsi définir une contrainte caractéristique de l’adhérence et propre au test,<br />

Σadh, exprimée en MPa, <strong>par</strong> l’équation D–4 :<br />

L<br />

(D–4) Σadh = β<br />

= 2<br />

Z<br />

adh

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