Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
au sein du substrat. De plus, la section obtenue après découpe est polie pour faciliter la lecture
de la longueur de fissure au microscope.
Une fois l’échantillon en place, une série de 15 indentations par charge appliquée est
effectuée. Les charges appliquées sont comprises entre 10 et 300 N.
D.3.2.2. Compréhension des résultats
Un exemple de résultat est présenté sur la Figure D.3-2. Le graphique représente la relation
entre chaque longueur de fissure, pour une charge appliquée, et la distance d’indentation par
rapport à l’interface.
Figure D.3-2 : Relation entre la distance d’indentation et la longueur de fissure.
Paramètres plasma : poudre 2YSZ, taux de charge de 6% en masse, préchauffage du
substrat à 200°C, couche de 30 µm d’épaisseur.
Pour une charge donnée, cette courbe correspond bien à la courbe de fissuration espérée avant
la réalisation du test (cf. Figure C.9-5) et il est possible d’observer les modes de fissuration
du revêtement en fonction de la distance d’indentation (cf. Figure D.3-3)
Les modes de fissuration observés sont similaires à ceux observés pour des revêtements lors
de tests de flexion 4 points [202]. Pour les « grandes » distance d’indentation aucune fissure
n’est observée (mode I). Puis, à une distance critique, Zadh, une fissure perpendiculaire à
l’interface apparaît (mode II). Elle manifeste le début de la rupture du revêtement. Cette
distance est caractéristique de l’adhérence la couche. Ensuite, la fissure croît le long de
l’interface (mode III). Apparaît ensuite une nouvelle distance critique, Zcoh, significative d’une
déviation de la fissure à travers le revêtement (mode IV). Cette fissuration à travers la couche
dépend des propriétés mécaniques de celle-ci. Enfin, la fissure se propage et entraine la
rupture du dépôt (mode V).
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