Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
Taux de charge de la
suspension (% massique)
- 175 -
6 13 20
porosité (%) 12 17 22
Taille des grains formant la
structure (nm)
300 400 550
Tableau D.2-9 : Influence du taux de charge de la suspension sur l’architecture de la
couche.
L’observation des particules collectées sur un substrat poli (cf. Figure D.2-27) montre qu’un
plus grand nombre d’agglomérats non complètement traités est présent lorsque le taux de
charge augmente. En effet, un plus grand nombre de particules se retrouvent mal traitées
thermiquement si l’on augmente le taux de charge de la suspension et les gros agglomérats ont
également plus de mal a être fondus.
6% 13% 20%
Figure D.2-27 : Particules nanométrique collectées sur un substrat Haynes ® 230 poli,
préchauffé à 400°C, pour différents taux de charge de la suspension.
Le taux de charge optimale de nanoparticules en suspension est donc de 6% afin d’obtenir les
caractéristiques de revêtement souhaitées.
D.2.4.3. Conclusion
La construction du revêtement dépend des conditions d’impact des particules sur le substrat
et en particulier de leur état de fusion et de leur vitesse. Pour trouver un bon compromis entre
la qualité de la couche et sa vitesse de croissance, il a été décidé de retenir un taux de charge
de suspension à 6 % en masse. Cette valeur permet de maintenir un temps de projection
acceptable et de limiter le nombre de particules insuffisamment traitées dans le jet de plasma.