Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
couche et donc d’une différence dans l’architecture de la couche et/ou dans l’état
thermocinétique des particules à l’impact.
Cette évolution de la structure est observée lors d’une analyse plus fine de l’architecture de la
couche. Bacciochini et al (2010) [165] ont montré l’intérêt de technique d’analyse, telle que
l’USAXS (Ultra Small Angle X-ray Scattering), pour décrire l’architecture de la couche à
l’échelle nanométrique. Cette technique n’étant pas facilement disponible, l’analyse a été
effectuée par analyse d’image à haute résolution (cf. Figure D.2-26); les résultats sont
présentés dans le Tableau D.2-9.
Image brute Image seuillée
Figure D.2-26 : Image utilisée pour la mesure de la taille des grains formant la
structure et technique de seuillage utilisée pour mesurer la porosité. Cas d’une
suspension chargée à 6 %.
Une augmentation de la taille des grains composant la structure est observée avec le taux de
charge de la suspension : la taille moyenne des grains est de 300 nm pour un taux de charge
de 6% et de 550 nm pour un taux de charge de 20%. Cette augmentation peut être expliquée
par la différence de taille de particules à l’impact. En effet, en considérant que les
nanoparticules sont réparties de façon homogène dans la suspension, les gouttes formées par
l’atomisation du liquide par le jet de plasma contiennent plus de nano particules si le taux de
charge est plus élevé et, une fois le solvant évaporé, la probabilité pour que les particules de
zircone fondues aient un diamètre supérieur est plus importante.
Une augmentation de la porosité des couches avec le taux de charge a également été observée,
comme l’avaient aussi observé Bacciochini et al. (2010) [165].
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