Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
paramètres plasma choisis semblent suffisamment « robustes » pour accepter n’importe
quelles conditions d’injection, dans la gamme testée, et conduire à des revêtements
homogènes avec des propriétés similaires. La seule différence notable est l’épaisseur déposée
en fonction du mode d’injection. En effet, la gravité dans le mode d’injection « haut en bas »
favorise une traversée plus rapide des particules au travers de l’écoulement ce qui entraîne
une diminution du rendement de projection. Le mode d’injection « bas en haut » a donc été
retenu pour la suite de l’étude.
D.2.4. Optimisation de la suspension
D.2.4.1. Choix du lot de poudre
Deux lots de poudre ont été utilisés au cours des essais dénommés « 1YSZ » et « 2YSZ ». Les
poudres ont la même composition chimique mais ont une distribution granulométrique
légèrement différente (cf. Figure C.2-4). Le lot 2YSZ présente une distribution
granulométrique bimodale avec un pic centré à 70 nm et l’autre à 190 nm (représentatif
d’amalgames au sein de la poudre suffisamment résistant vis-à-vis des ultrasons) alors que la
poudre 1YSZ présente une distribution monomodale resserrée autour de 70 nm. Les coupes
des revêtements réalisés avec chaque lot de poudre avec les conditions de projection décrits
précédemment sont présentées sur la Figure D.2-24.
1YSZ 2YSZ
Figure D.2-24 : Microstructure de la couche pour deux lots de poudre.
Aucune différence n’est observée dans l’architecture des couches pour les deux lots de
poudres. Cependant, l’épaisseur du revêtement réalisé avec la poudre « 2YSZ » est plus
élevée : 36,2 µm contre 28,2 µm en moyenne, ce qui peut s’expliquer par la présence de
particules plus grosses dispersées aléatoirement dans les gouttelettes après la fragmentation du
liquide. Cependant, l’échelle de taille des particules est suffisamment faible pour ne pas
engendrer de modification visible au sein de la structure.
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