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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée<br />

splats <strong>sur</strong> des substrats polis préchauffés à différentes températures a donc été menée. Pour<br />

faciliter l’observation, l’étude a commencé avec des <strong>par</strong>ticules micrométriques (cf. Figure<br />

D.2-13) avant de se poursuivre avec une <strong>projection</strong> de suspension (cf. Figure D.2-14).<br />

a. b.<br />

Figure D.2-13 : Particules micrométriques de zircone yttriée, étalées <strong>sur</strong> un substrat<br />

Haynes ® 230 préchauffé à différentes température, a. 200°C, b. 400°C.<br />

Pour les splats de taille micrométrique, une forme lenticulaire, caractéristique d’une<br />

température de substrat proche de la température de transition est clairement observée pour les<br />

substrats préchauffés à des températures égales ou supérieures à 400°C. .<br />

Pour les splats de tailles nanométrique, une différence ap<strong>par</strong>ait également au-delà de 400°C.<br />

En effet quelque soit la température de préchauffage, un certain nombre de <strong>par</strong>ticules étalées<br />

sous forme lenticulaire ap<strong>par</strong>aît mais il augmente avec la température de préchauffage et à<br />

<strong>par</strong>tir de 400°C l’étalement sous forme lenticulaire devient la règle. La notion de température<br />

de transition semble pouvoir être étendue à l’échelle nanométrique et pour le couple Haynes ®<br />

230/zircone, une température de 400°C semble être adéquate pour favoriser l’adhérence de la<br />

couche.<br />

a. b.<br />

Figure D.2-14 : Particules nanométriques de zircone yttriée étalées <strong>sur</strong> un substrat<br />

Haynes ® 230 préchauffé à différentes température, a. 200°C, b. 400°C.<br />

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