Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Chapitre IV : Développement et optimisation de la sous-couche nanostructurée
D.2.1.2. Distance de projection
La distance de projection joue un rôle non négligeable sur l’état thermocinétique des
particules à l’impact. En effet, de par leur taille, les particules ont une faible inertie
dynamique et thermique ; leur décélération et leur resolidification éventuelles avant
d’atteindre la cible peuvent jouer un rôle sur la structure des revêtements.
L’étude micrographique des dépôts pour différentes distances de tir (30, 40 et 50 mm) est
présentée sur la Figure D.2-9.
a. b.
c.
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Figure D.2-9 : Influence de la distance de
tir sur un revêtement de zircone projeté
par SPS.
a. 30 mm
b. 40 mm
c. 50mm
Les couches réalisées à des distances de 30 et 40 mm ne présentent pas de différence notable.
Par contre, à une distance de 50 mm, lors de la découpe de l’échantillon avant préparation, le
dépôt se désolidarise du substrat, ce qui dénote une faible liaison substrat/dépôt et lors du
polissage, de nombreux grains sont arrachés à la surface de la couche, ce qui s’explique par
une cohésion de la couche moins importante. Les particules, ayant une distance plus longue à
parcourir, sont soumises à une décélération plus importante et également à une chute de
température plus élevée. Il est donc possible que de particules resolidifiées impactent sur le
substrat et s’intègrent au revêtement ce qui en limite la cohésion.
L’évaluation de la vitesse de croissance des couches (cf. Figure D.2-10) montre qu’il est
préférable de se placer à une distance de 40 mm. Une vitesse de croissance plus faible pour