10.08.2013 Views

Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

SHOW MORE
SHOW LESS

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

Chapitre III : Stratégie expérimentale et moyens utilisés au cours de l’étude<br />

Le microscope utilisé pour l’obtention des clichés AFM est un Nanoscope II de marque<br />

DIGITAL INSTRUMENTS. Il possède une résolution horizontale de 0,2 nm pour un champ de<br />

me<strong>sur</strong>e de 130 µm 2 et sa résolution verticale est de 0,01 nm avec un débattement maximum<br />

de 7,5 µm.<br />

C.6.3. Spectrométrie photoélectronique X : XPS<br />

La spectrométrie photoélectronique X ou XPS (X-ray Photoelectron Spectrometry) est une<br />

méthode physique d’analyse chimique, ap<strong>par</strong>ue dans les années 1960, anciennement<br />

dénommée ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis).<br />

Tout comme pour la microscopie, cette technique est basée <strong>sur</strong> le principe de l’interaction<br />

rayonnement-matière. En effet, un faisceau de rayons X monochromatiques irradie la <strong>sur</strong>face<br />

à analyser, et provoque une ionisation de la matière qui répond en émettant des<br />

photoélectrons. Un capteur me<strong>sur</strong>e l’énergie cinétique de ces photoélectrons et permet<br />

d’obtenir un spectre de l’intensité des électrons en fonction de l’énergie me<strong>sur</strong>ée.<br />

Pour notre étude nous avons utilisé un XPS type Axis Ultra de marque KRATOS (Manchester,<br />

RU). Ce spectromètre utilise la raie Al Kα1 (E = 1486,6 eV), avec une énergie de passage de<br />

l’analyseur hémisphérique réglé à une valeur constante (20 eV pour un spectre dit de haute<br />

résolution et de 160 eV pour un spectre global). Les énergies de liaisons sont étalonnées en<br />

utilisant la position des pics Au 4f7/2 et Cu 2p3/2 à respectivement 84,0 et 932,7 eV. Par la<br />

suite une correction du décalage en énergie, due aux effets de charge, est effectuée en fixant le<br />

pic C 1s à une énergie de 284,6 eV. L’analyse est effectuée <strong>sur</strong> une <strong>sur</strong>face de 300700 µm 2 et<br />

une profondeur de quelques nanomètres.<br />

C.6.4. Microscopie électronique en transmission<br />

La microscopie électronique en transmission (MET) est une technique utilisant un faisceau<br />

d’électrons « transmis » au travers d’un échantillon très mince. Les effets d'interaction entre<br />

les électrons et l'échantillon donnent naissance à une image, dont la résolution peut atteindre<br />

0,08 nanomètre. Contrairement aux autres techniques de microscopie, la résolution n’est pas<br />

limitée <strong>par</strong> la longueur d’onde du faisceau incident mais <strong>par</strong> les aberrations dues aux lentilles<br />

magnétiques.<br />

Il est donc nécessaire de placer un échantillon suffisamment mince sous un faisceau<br />

d'électrons, et d'utiliser un système de lentilles magnétiques pour projeter l'image de<br />

l'échantillon <strong>sur</strong> un écran phosphorescent, ou une caméra, qui transforme l'image électronique<br />

en image optique. Concernant les échantillons cristallins, il est également possible de<br />

visualiser le cliché de diffraction de l'échantillon.<br />

Pour cette étude, un microscope électronique à transmission de type JEOL 2010 (JEOL,<br />

Tokyo, Japon) possédant une source à émission de champ et permettant de travailler avec une<br />

tension d’accélération de 200 keV a été utilisé. Ce microscope est également capable de<br />

- 133 -

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!