Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...
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Chapitre III : Stratégie expérimentale et moyens utilisés au cours de l’étude<br />
Un mélange binaire, Ar-H2 (75-25% vol.), permettant d’obtenir des <strong>revêtement</strong>s<br />
relativement plus denses (porosité inférieure à 10%) avec une vitesse de construction<br />
du dépôt élevée (5-6 µm/cycle) [50], [179]. Le débit volumique est fixé à 60 Nl/min<br />
soit 1,359 g/s de débit massique total. (Tableau C.3-3)<br />
Un mélange ternaire, Ar-He-H2, choisi à <strong>par</strong>tir des travaux de V. Debout (2007) [44],<br />
afin d’obtenir un dépôt de porosité élevée. (Tableau C.3-3)<br />
Débit volumique<br />
en gaz (Nl/min)<br />
- 119 -<br />
% volumique<br />
Ar He H2 Ar He H2<br />
Débit<br />
volumique<br />
total<br />
(Nl/min)<br />
Débit<br />
massique<br />
total (g/s)<br />
Ar-H2 45 0 15 75 0 25 60 1,359<br />
Ar-He-H2 12 45 3 20 75 5 60 0,495<br />
Tableau C.3-3 : Mélanges <strong>plasma</strong>gènes utilisés pour la <strong>projection</strong> de poudre<br />
micrométrique.<br />
C.3.2.2. Intensité du courant d’arc<br />
Une variation de l’intensité du courant d’arc se traduit essentiellement <strong>par</strong> une variation de la<br />
vitesse des <strong>par</strong>ticules, la variation de leur température étant moindre [44].<br />
Pour la réalisation de dépôt <strong>par</strong> <strong>projection</strong> de suspension, l’intensité a été fixée à 700 A, alors<br />
que pour la réalisation de dépôt <strong>par</strong> <strong>projection</strong> de <strong>par</strong>ticules micrométriques elle a été fixée à<br />
600 A.<br />
C.3.2.3. Diamètre de tuyère<br />
Des tuyères de 6 et 8 mm de diamètre (rapport de <strong>sur</strong>face de 1,8) ont été utilisées afin de faire<br />
varier la vitesse des <strong>par</strong>ticules, leur temps de séjour dans le jet <strong>plasma</strong> et donc leur<br />
température à l’impact.<br />
C.3.2.4. Distance de <strong>projection</strong><br />
Pour les dépôts de suspension, la distance de tir a varié entre 30 et 50 mm ce qui implique un<br />
fort flux thermique <strong>sur</strong> les échantillons et donc un échauffement rapide. Afin de contrôler la<br />
température de substrat lors de ce type de <strong>projection</strong> un fort débit de liquide cryogénique doit<br />
lui être associé (12 à 15.10 -4 l/s). Pour les dépôts de <strong>par</strong>ticules micrométriques, la distance a<br />
varié entre 80 et 120 mm engendrant donc des modifications importantes de l’état<br />
thermocinétique des <strong>par</strong>ticules à l’impact.
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