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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre III : Stratégie expérimentale et moyens utilisés au cours de l’étude<br />

La combinaison entre les <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong> (notamment la distance relative torchesubstrat)<br />

et les hautes températures du milieu <strong>plasma</strong> peuvent entraîner un fort échauffement<br />

des échantillons voire même leur destruction. Pour contrôler la température du substrat, un<br />

dispositif de refroidissement cryogénique a été utilisé. Deux buses d’atomisation<br />

cryogéniques, placées à 90° <strong>par</strong> rapport à l’axe de la torche, pulvérisent sous forme de fines<br />

gouttelettes un jet de CO2 liquide (T = -20 °C) à haute pression (entre 2 et 3 MPa)<br />

correspondant à un débit pouvant varier entre 12,7.10 -4 et 15,5.10 -4 l/s. Les pressions du gaz<br />

d’atomisation et du liquide sont ajustées selon les conditions de <strong>projection</strong> pour atteindre un<br />

équilibre entre les différentes sources thermiques (<strong>plasma</strong>, <strong>par</strong>ticules, cryogénie) aux<br />

alentours de la température désirée.<br />

Avant <strong>projection</strong>, les substrats sont préchauffés à la température souhaitée grâce à plusieurs<br />

passages de la torche <strong>plasma</strong> devant le substrat. Afin de contrôler l’oxydation potentielle des<br />

substrats lors du préchauffage, un même temps de préchauffage est appliqué d’un essai à<br />

l’autre pour une température donnée. Lors d’une modification des <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong>,<br />

l’enthalpie du mélange <strong>plasma</strong> est ajustée afin de respecter ce temps.<br />

C.3.2. Conditions de <strong>projection</strong><br />

Ce <strong>par</strong>agraphe porte <strong>sur</strong> les conditions de <strong>projection</strong> utilisées pour la réalisation des couches<br />

soit à <strong>par</strong>tir de suspensions soit à <strong>par</strong>tir de poudre dont les <strong>par</strong>ticules sont de taille<br />

micrométrique. .<br />

Pour la <strong>projection</strong> de suspension, nous avons choisi dans un premier temps de travailler avec<br />

un mélange de gaz <strong>plasma</strong>gène binaire Ar-He, qui est caractérisé <strong>par</strong> une tension d’arc<br />

évoluant temporellement sous forme sinusoïdale (mode « take-over ») [33] avec des<br />

fluctuations relativement faibles. Ces conditions aident à, d’homogénéiser le traitement<br />

thermocinétique du jet de liquide dans le jet de <strong>plasma</strong>, tant pour sa fragmentation que pour<br />

l’évaporation du solvant et la fusion des nano<strong>par</strong>ticules. Nous avons ensuite évolué vers des<br />

mélange de gaz <strong>plasma</strong>gènes ternaire Ar-He-H2 afin d’améliorer les transferts de chaleur et de<br />

quantité de mouvement; ils correspondant cependant à des jets légèrement moins stables.<br />

Le choix final des <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong> a été effectué à <strong>par</strong>tir (i) de l’observation de<br />

l’architecture des <strong>revêtement</strong>s <strong>par</strong> microscopie électronique à balayage, celle-ci devant être la<br />

plus homogène possible et (ii) de la me<strong>sur</strong>e des propriétés mécaniques de la couche, me<strong>sur</strong>ées<br />

essentiellement <strong>par</strong> une technique de nano-indentation.<br />

Pour la <strong>projection</strong> des <strong>par</strong>ticules de poudre de taille micrométrique, le choix des <strong>par</strong>amètres<br />

de <strong>projection</strong> s’est appuyé <strong>sur</strong> la stratégie développée <strong>par</strong> V. Debout (2007) [44].<br />

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