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Elaboration par projection plasma d'un revêtement céramique sur ...

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Chapitre III : Stratégie expérimentale et moyens utilisés au cours de l’étude<br />

travaux. Ces derniers ont été menées selon deux étapes principales : (1) la réalisation d’une<br />

couche nanostructurée de zircone yttriée avec une adhérence contrôlée et (2) la réalisation du<br />

bicouche <strong>par</strong> la superposition d’une couche de zircone yttriée architecturée à l’échelle<br />

microscopique <strong>sur</strong> la couche nanostructurée. Cette procédure a fait l’objet d’une demande de<br />

dépôt de brevet [177].<br />

Etape 1 :<br />

Les matériaux<br />

Etape 2 :<br />

Les pré-requis<br />

Etape 3 :<br />

Solutions potentielles<br />

Etape 4 :<br />

Procédé adapté<br />

Etape 5 :<br />

Problème<br />

Etape 6 :<br />

Solution finale<br />

Adhérence élevée<br />

Substrat lisse :<br />

Impossibilité d’un<br />

accrochage mécanique<br />

Projection de<br />

suspension<br />

Limitée en<br />

épaisseur<br />

Figure C.1-1 : Stratégie expérimentale.<br />

Ce chapitre a pour but de présenter la méthodologie et les moyens de l’étude : il se décompose<br />

en trois <strong>par</strong>ties principales. La première <strong>par</strong>tie de ce chapitre présente la stratégie de l’étude<br />

proprement dite, c'est-à-dire la méthodologie utilisée pour remplir les objectifs du cahier des<br />

charges. La seconde <strong>par</strong>tie porte <strong>sur</strong> les matériaux de l’étude, aussi bien les différents<br />

substrats que les poudres utilisées. Enfin, la dernière <strong>par</strong>tie présente les moyens de l’étude,<br />

c'est-à-dire le dispositif de <strong>projection</strong> et le choix des <strong>par</strong>amètres de <strong>projection</strong>s, mais<br />

également l’ensemble des outils de contrôle du procédé ou de caractérisations des matériaux<br />

nécessaires.<br />

- 106 -<br />

Choix du couple<br />

substrat / <strong>revêtement</strong><br />

Conductivité<br />

thermique faible<br />

Forte porosité ou<br />

nombre de joint<br />

de grains élevé<br />

Liaison cristallographique<br />

ou<br />

Liaison chimique<br />

Résistivité<br />

thermique forte<br />

Epaisseur élevée<br />

Projection<br />

conventionnelle<br />

Manque d’adhérence<br />

<strong>sur</strong> un substrat lisse<br />

Système multicouche :<br />

Substrat / Couche nanostructurée / Couche microstructurée

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