Capítulo X: Introducción

Capítulo 5: Despliegue Multi-resoluciónh h ( h h ) * opacidad , [Ec. 5.1]minmaxminen donde hmin es la distancia entre muestras utilizada cuando el rayoentra en el volumen, hmax la distancia máxima permitida, y p es el factorde potencia que indica cuán rápido aumenta la distancia entre muestrasconforme aumenta la opacidad acumulada en el rayo. Para nuestroconocimiento, es la primera vez que se implementa el muestreoadaptativo basado en opacidad en el despliegue de volúmenes multiresoluciónparticionados en bricks con aceleración en hardware gráfico.Para llevar traza de la opacidad acumulada en el rayo entre bricks, semuestrea el FBO de manera similar a cuando se utiliza la técnica de laterminación temprana del rayo. Al muestrear la opacidad de un píxel delFBO, es posible que no tenga la información más reciente; así, se podríangenerar más pasos de muestreo de los necesarios, por lo que esteenfoque es conservativo.pplanos de corteo MC-Slicingrasterizaciónconstruyendoslabsr 2r 1hi(a) (b) (c) (d)slabFigura 5.3: despliegue de un brick utilizando pre-integración. (a) Polígonos alineadosal viewport, separados por una distancia hi. (b) Los polígonos son ajustados a latextura. (c) Fragmentos generados durante la rasterización. (d) Cada polígono esenvuelto por un slab. Así, por cada fragmento generado, se construye el segmento delslab correspondiente.5.3 Planos Alineados al ViewportPor cada brick, se construye una pila de polígonos alineados al viewport,los cuales deben ser ajustados a la textura (ver Fig. 5.3a y 5.3b). Laprincipal dificultad de esta técnica es ajustar los polígonos a lasfronteras del volumen, en donde el polígono resultante puede tener entre3 y 6 vértices (ver Fig. 5.4).-81-