Capítulo X: Introducción

Capítulo 5: Despliegue Multi-resolución[LJU06C], aumentando el potencias de dos. Sea h0 la distancia entremuestras en el nivel de detalle más fino del volumen. En el nivel dedetalle i-ésimo, la distancia entre muestras viene dada por hi=2 i h0.(a)(b)(c)Figura 5.2: despliegue de bricks utilizando ray casting basado en GPU. Por cadabrick se despliegan las caras frontales para activar los programas de fragmentosdurante la rasterización. (a) Muestreo a pasos constantes. (b) Muestreo adaptativopor nivel de detalle. (c) Muestreo adaptativo por acumulación de opacidad.El muestreo adaptativo basado en el nivel de detalle puede acentuar lasdiferencias de resolución que no eran perceptibles con muestreo a pasosconstantes (ver Fig. 5.2a,b). Como una alternativa, se adapta el paso demuestreo a la opacidad acumulada a lo largo del rayo (ver Fig. 5.2c).Mientras la opacidad aumenta, la influencia de las muestras remanentesen el rayo decrece, y por lo tanto, la longitud del paso puede aumentarsin generar un impacto visual en la imagen. Basados en estaobservación, Danskin et al. [DAN92] introdujeron la aceleración beta (acceleration),que considera la opacidad acumulada multiplicada por lamuestra del volumen, para determinar el tamaño del paso, y el nivel dedetalle de la próxima muestra. Así, el nivel de detalle y la longitud entremuestras puede aumentar y decrementar durante la travesía del rayo.Sin embargo, para volúmenes de gran tamaño, no es posible tener accesoa todos los niveles de detalle a la vez. Adicionalmente, el valor de lamuestra no puede ser indicativo de la distancia entre muestras, pues lafunción de transferencias es la que puede indicar la importancia el nivelde importancia de una muestra. En este trabajo, el nivel de detalle decada área del volumen está determinado por el algoritmo de selección, yla distancia entre muestras depende únicamente de la opacidadacumulada, y se incrementa exponencialmente entre hmin y hmax mediantela siguiente ecuación:-80-