DRAFT MESSAGES FOR PRESS RELEASE OF LAUNCH - D2S, Inc.

報 道 発 表
2011 年 10 月 1 日
報 道 関 係 各 位
DFEB 技 術 をリードする D2S の 日 本 法 人 に 新 社 長
- 半 導 体 製 造 技 術 に 詳 しい 経 営 者 が 就 任 -
コンピュテーショナル・デザイン・プラットフォーム( 高 度 なソフトウェアと 半 導 体 IP
を 含 む 設 計 環 境 )を 提 供 するベンチャー 企 業 である D2S, Inc.の 日 本 法 人 、 株 式 会 社 D2S
( 本 社 : 横 浜 市 港 北 区 新 横 浜 )は、10 月 1 日 付 けで 代 表 取 締 役 社 長 に 立 石 正 博 が 就 任 した
ことを 本 日 発 表 しました。 立 石 正 博 は KLA テンコール 株 式 会 社 、PDF Solutions, Inc. 等 の
マネジャーや 役 員 を 歴 任 し、 半 導 体 製 造 技 術 関 連 業 界 におけるビジネス・デベロップメント、
顧 客 サービス、それに 経 営 者 としての 豊 富 な 経 験 を 有 しています。D2S ではこの 経 験 を 生 か
して、 日 本 の 誇 る EB 装 置 メーカやフォトマスクメーカ、あるいは 半 導 体 デバイスメーカと
の 協 力 関 係 を 強 化 すると 共 に、 日 本 市 場 における 事 業 の 拡 大 を 目 指 します。またアジア 市 場
における D2S, Inc.の 事 業 拡 大 の 支 援 も 行 ってまいります。
D2S は DFEB(Design for e-beam ) 技 術 として、マスクレス 技 術 である EB 直 接 描 画 (EB
Direct Writing)に 加 えて、 次 世 代 半 導 体 プロセス・ノードに 必 要 な 高 解 像 度 のマスクを 高
い 費 用 対 効 果 で 実 現 する 事 のできる、Model-based mask data preparation (MD-MDP) 技 術
を 提 提 供 しています。
立 石 正 博 の 主 な 略 歴
1963 年 4 月 生 まれ
1989 年 3 月 慶 応 大 学 大 学 院 修 士 課 程 ( 化 学 専 攻 )を 終 了
1989 年 4 月 NKK( 現 JFE)に 入 社 、 半 導 体 プロセス、 製 造 技 術 部 門 のリーダー 等
1994 年 2 月 ~ KLA テンコール 株 式 会 社 、ウェハー 検 査 装 置 ビジネスユニット 責 任 者 等
2000 年 1 月 ~ PDF Solutions, Inc. 日 本 ビジネスデベロプメント 担 当 副 社 長 等
2005 年 1 月 ~ プリミアテクノロジーズ 株 式 会 社 創 立 に 参 加 、 取 締 役
2009 年 6 月 ~ ガーディアンジャパン 株 式 会 社 代 表 取 締 役 社 長
Aki Fujimura(D2S Inc. Chairman 兼 CEO)
「 立 石 氏 を D2S に 迎 えることができ 大 変 喜 んでいます。 我 社 は 今 開 発 段 階 から 商 業 化 の
段 階 に 入 るところですので、 彼 のウェハー 歩 留 まり 向 上 に 関 する 広 範 な 見 識 によってカスタ
マとの 協 力 関 係 を 深 めることができ、 先 端 半 導 体 ウェハーの 歩 留 まりを 向 上 する 高 精 度 マス
クを、 短 い TAT で 提 供 することが 可 能 になります。」
-more-

立 石 正 博 ( 株 式 会 社 D2S 代 表 取 締 役 社 長 )
「 最 先 端 半 導 体 のマスクの 複 雑 さと 価 格 は 急 激 に 上 昇 しており、20nm 以 降 のプロセス・ノ
ードの 高 精 度 マスク 製 造 を 現 実 的 な 価 格 で 可 能 にする 技 術 の 重 要 性 は 増 しています。D2S は
他 にはない MB-MDP 技 術 をパートナー 企 業 様 に 提 供 しておりますが、 今 回 、より 多 くのお
客 様 にご 利 用 いただけます 新 商 品 TrueMask リリースのこの 時 期 に D2S のチームに 参 加 す
ることは 大 変 光 栄 であり、また 刺 激 的 なことです。」
D2S(Design to Silicon)について:
D2S Inc.は、 少 量 生 産 ・ 大 量 生 産 の 両 アプリケーション 分 野 のマスク 費 用 を 削 減 するため、 既 存
の 電 子 ビーム・テクノロジを 最 大 限 に 生 かすコンピュテーショナル・デザイン・プラットフォー
ム(computational design platform、 高 度 なソフトウェアと 半 導 体 IP を 含 む 設 計 環 境 )を 提
供 するベンチャー 企 業 です。D2S の 先 進 的 な design-for-e-beam(DFEB)マスク・ソリューショ
ンは、 既 存 の EB マスク 描 画 装 置 を 利 用 して 複 雑 かつ 曲 線 形 状 を 持 つ、 大 量 生 産 品 種 用 マスクの
描 画 時 間 を 短 縮 します。また、D2S の DFEB 直 描 ソリューションは、 少 量 生 産 品 種 に 対 して
実 質 的 にマスク 費 用 が 不 要 となり、 設 計 からリソグラフィまでの 工 程 の 短 縮 により 製 品 の 市 場 投
入 までのタイム・トゥ・マーケットを 短 縮 します。D2S は、eBeam Initiative の 事 務 局 です。
D2S は、2007 年 に 設 立 され、カリフォルニア 州 サンノゼ 市 に 本 社 、 横 浜 市 新 横 浜 に 日 本 法 人
( 株 )D2S があります。ホームページ:http://www.design2silicon.com/
本 件 に 関 するご 連 絡 先 :
株 式 会 社 D2S
吉 田 憲 司 ( 取 締 役 会 長 )
Tel: 045-479-8390( 代 )
E-mail: kenji@design2silicon.com
D2S は、アメリカ 合 衆 国 の 登 録 商 標 です。 本 報 道 発 表 内 で 提 供 されている 情 報 は、 発 表 日 現 在 のものです。その
後 予 告 なしに 変 更 されることがあります。あらかじめご 了 承 ください。