DRAFT MESSAGES FOR PRESS RELEASE OF LAUNCH - D2S, Inc.
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報 道 発 表<br />
2011 年 10 月 1 日<br />
報 道 関 係 各 位<br />
DFEB 技 術 をリードする <strong>D2S</strong> の 日 本 法 人 に 新 社 長<br />
- 半 導 体 製 造 技 術 に 詳 しい 経 営 者 が 就 任 -<br />
コンピュテーショナル・デザイン・プラットフォーム( 高 度 なソフトウェアと 半 導 体 IP<br />
を 含 む 設 計 環 境 )を 提 供 するベンチャー 企 業 である <strong>D2S</strong>, <strong>Inc</strong>.の 日 本 法 人 、 株 式 会 社 <strong>D2S</strong><br />
( 本 社 : 横 浜 市 港 北 区 新 横 浜 )は、10 月 1 日 付 けで 代 表 取 締 役 社 長 に 立 石 正 博 が 就 任 した<br />
ことを 本 日 発 表 しました。 立 石 正 博 は KLA テンコール 株 式 会 社 、PDF Solutions, <strong>Inc</strong>. 等 の<br />
マネジャーや 役 員 を 歴 任 し、 半 導 体 製 造 技 術 関 連 業 界 におけるビジネス・デベロップメント、<br />
顧 客 サービス、それに 経 営 者 としての 豊 富 な 経 験 を 有 しています。<strong>D2S</strong> ではこの 経 験 を 生 か<br />
して、 日 本 の 誇 る EB 装 置 メーカやフォトマスクメーカ、あるいは 半 導 体 デバイスメーカと<br />
の 協 力 関 係 を 強 化 すると 共 に、 日 本 市 場 における 事 業 の 拡 大 を 目 指 します。またアジア 市 場<br />
における <strong>D2S</strong>, <strong>Inc</strong>.の 事 業 拡 大 の 支 援 も 行 ってまいります。<br />
<strong>D2S</strong> は DFEB(Design for e-beam ) 技 術 として、マスクレス 技 術 である EB 直 接 描 画 (EB<br />
Direct Writing)に 加 えて、 次 世 代 半 導 体 プロセス・ノードに 必 要 な 高 解 像 度 のマスクを 高<br />
い 費 用 対 効 果 で 実 現 する 事 のできる、Model-based mask data preparation (MD-MDP) 技 術<br />
を 提 提 供 しています。<br />
立 石 正 博 の 主 な 略 歴<br />
1963 年 4 月 生 まれ<br />
1989 年 3 月 慶 応 大 学 大 学 院 修 士 課 程 ( 化 学 専 攻 )を 終 了<br />
1989 年 4 月 NKK( 現 JFE)に 入 社 、 半 導 体 プロセス、 製 造 技 術 部 門 のリーダー 等<br />
1994 年 2 月 ~ KLA テンコール 株 式 会 社 、ウェハー 検 査 装 置 ビジネスユニット 責 任 者 等<br />
2000 年 1 月 ~ PDF Solutions, <strong>Inc</strong>. 日 本 ビジネスデベロプメント 担 当 副 社 長 等<br />
2005 年 1 月 ~ プリミアテクノロジーズ 株 式 会 社 創 立 に 参 加 、 取 締 役<br />
2009 年 6 月 ~ ガーディアンジャパン 株 式 会 社 代 表 取 締 役 社 長<br />
Aki Fujimura(<strong>D2S</strong> <strong>Inc</strong>. Chairman 兼 CEO)<br />
「 立 石 氏 を <strong>D2S</strong> に 迎 えることができ 大 変 喜 んでいます。 我 社 は 今 開 発 段 階 から 商 業 化 の<br />
段 階 に 入 るところですので、 彼 のウェハー 歩 留 まり 向 上 に 関 する 広 範 な 見 識 によってカスタ<br />
マとの 協 力 関 係 を 深 めることができ、 先 端 半 導 体 ウェハーの 歩 留 まりを 向 上 する 高 精 度 マス<br />
クを、 短 い TAT で 提 供 することが 可 能 になります。」<br />
-more-
立 石 正 博 ( 株 式 会 社 <strong>D2S</strong> 代 表 取 締 役 社 長 )<br />
「 最 先 端 半 導 体 のマスクの 複 雑 さと 価 格 は 急 激 に 上 昇 しており、20nm 以 降 のプロセス・ノ<br />
ードの 高 精 度 マスク 製 造 を 現 実 的 な 価 格 で 可 能 にする 技 術 の 重 要 性 は 増 しています。<strong>D2S</strong> は<br />
他 にはない MB-MDP 技 術 をパートナー 企 業 様 に 提 供 しておりますが、 今 回 、より 多 くのお<br />
客 様 にご 利 用 いただけます 新 商 品 TrueMask リリースのこの 時 期 に <strong>D2S</strong> のチームに 参 加 す<br />
ることは 大 変 光 栄 であり、また 刺 激 的 なことです。」<br />
<strong>D2S</strong>(Design to Silicon)について:<br />
<strong>D2S</strong> <strong>Inc</strong>.は、 少 量 生 産 ・ 大 量 生 産 の 両 アプリケーション 分 野 のマスク 費 用 を 削 減 するため、 既 存<br />
の 電 子 ビーム・テクノロジを 最 大 限 に 生 かすコンピュテーショナル・デザイン・プラットフォー<br />
ム(computational design platform、 高 度 なソフトウェアと 半 導 体 IP を 含 む 設 計 環 境 )を 提<br />
供 するベンチャー 企 業 です。<strong>D2S</strong> の 先 進 的 な design-for-e-beam(DFEB)マスク・ソリューショ<br />
ンは、 既 存 の EB マスク 描 画 装 置 を 利 用 して 複 雑 かつ 曲 線 形 状 を 持 つ、 大 量 生 産 品 種 用 マスクの<br />
描 画 時 間 を 短 縮 します。また、<strong>D2S</strong> の DFEB 直 描 ソリューションは、 少 量 生 産 品 種 に 対 して<br />
実 質 的 にマスク 費 用 が 不 要 となり、 設 計 からリソグラフィまでの 工 程 の 短 縮 により 製 品 の 市 場 投<br />
入 までのタイム・トゥ・マーケットを 短 縮 します。<strong>D2S</strong> は、eBeam Initiative の 事 務 局 です。<br />
<strong>D2S</strong> は、2007 年 に 設 立 され、カリフォルニア 州 サンノゼ 市 に 本 社 、 横 浜 市 新 横 浜 に 日 本 法 人<br />
( 株 )<strong>D2S</strong> があります。ホームページ:http://www.design2silicon.com/<br />
本 件 に 関 するご 連 絡 先 :<br />
株 式 会 社 <strong>D2S</strong><br />
吉 田 憲 司 ( 取 締 役 会 長 )<br />
Tel: 045-479-8390( 代 )<br />
E-mail: kenji@design2silicon.com<br />
<strong>D2S</strong> は、アメリカ 合 衆 国 の 登 録 商 標 です。 本 報 道 発 表 内 で 提 供 されている 情 報 は、 発 表 日 現 在 のものです。その<br />
後 予 告 なしに 変 更 されることがあります。あらかじめご 了 承 ください。