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caracteristicas de las fibras opticas - publicaciones de Roberto Ares

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RECEPTOR DE ENLACE OPTICO<br />

En la Fig 02 se muestra <strong>las</strong> distintas formas <strong>de</strong> junturas. En una juntura simple PN los pares creados fuera <strong>de</strong> la zona <strong>de</strong><br />

juntura se vuelven a recombinar. Para incrementar la zona <strong>de</strong> <strong>de</strong>tección se coloca una capa intermedia levemente dopada o<br />

intrínseca constituyendo un diodo PIN. Si ahora se agrega una capa adicional altamente dopada se crea una elevada<br />

diferencia <strong>de</strong> potencial que produce una ganancia interna <strong>de</strong>bido a una avalancha <strong>de</strong> electrones, dando lugar al fotodiodo por<br />

avalancha APD.<br />

FOTODIODO AVALANCHA. La elevada diferencia <strong>de</strong> potencial <strong>de</strong>l APD permite que algunos electrones cedan parte <strong>de</strong><br />

la energía para formar otros pares adicionales, lo cual se logra cuando el campo eléctrico <strong>de</strong> la juntura supera los 3.10 5<br />

V/cm. El proceso <strong>de</strong> multiplicación por avalancha crea una ganancia interna M que es aleatoria. Des<strong>de</strong> el punto <strong>de</strong> vista<br />

eléctrico <strong>de</strong>l APD se comporta como un diodo i<strong>de</strong>al en paralelo con un generador <strong>de</strong> corriente proporcional a la luz<br />

inci<strong>de</strong>nte. Cuando llega a un valor <strong>de</strong> tensión <strong>de</strong> polarización inversa que crea un campo interno suficiente para iniciar la<br />

avalancha, se produce un aumento <strong>de</strong> la fotocorriente. La tensión necesaria es <strong>de</strong> 150 a 400 V en el Si y <strong>de</strong> 10 a 50 V en el<br />

Ge.<br />

Sin inci<strong>de</strong>ncia <strong>de</strong> luz se tiene una corriente residual <strong>de</strong> oscuridad, que resulta ser la suma producida por la difusión <strong>de</strong><br />

portadores minoritarios generados térmicamente fuera <strong>de</strong> la zona <strong>de</strong> <strong>de</strong>plexión y la tunelización <strong>de</strong> electrones entre la BV y<br />

BC. En resumen se usarán el Si en 0,85 µm; y el Ge o InP en 1,3 ó 1,55 µm y con dos estructuras posibles el PIN o APD. En<br />

general se usa la estructura APD para el Si y Ge y la estructura PIN para los <strong>de</strong>rivados <strong>de</strong>l InP. En el diodo PIN la velocidad<br />

<strong>de</strong> los portadores en un campo típico <strong>de</strong> 2 V/µm es <strong>de</strong> 84 µm/ns para el electrón y <strong>de</strong> 44 µm/ns para <strong>las</strong> lagunas. Para un<br />

ancho <strong>de</strong> carga espacial <strong>de</strong> 20 µm, con 40 V <strong>de</strong> tensión externa el electrón lo recorre en 250 ps y la laguna en 500 ps; la luz<br />

es absorbida cerca <strong>de</strong> la juntura PI y <strong>las</strong> lagunas recorren por ello un camino menor. La eficiencia cuántica <strong>de</strong>l diodo PIN es<br />

<strong>de</strong>l 80%.<br />

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