caracteristicas de las fibras opticas - publicaciones de Roberto Ares
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2- PRODUCCIÓN DE LA PREFORMA<br />
CABLES CON FIBRAS OPTICAS<br />
La producción comercial actual <strong>de</strong> <strong>las</strong> FO <strong>de</strong> sílice para telecomunicaciones se realiza mediante el método <strong>de</strong> la preforma<br />
que consiste en dos pasos, la fabricación <strong>de</strong> la preforma (un bastón <strong>de</strong> sílice <strong>de</strong> 1 m <strong>de</strong> longitud y 2 cm <strong>de</strong> diámetro cuyo<br />
perfil <strong>de</strong> índice <strong>de</strong> refracción es idéntico a la FO <strong>de</strong>seada) y el estirado <strong>de</strong> la preforma.<br />
Los métodos comerciales respon<strong>de</strong>n a procesos diseñados en distintos laboratorios pudiendo i<strong>de</strong>ntificarse:<br />
-OVD (Outsi<strong>de</strong> Vapor Deposition) <strong>de</strong> la Corning G<strong>las</strong>s W (Siecor).<br />
-MCVD (Modified Chemical Vapor Deposition) <strong>de</strong> la Bell Labs.<br />
-PCVD (P<strong>las</strong>ma Activated Vapor Deposition) <strong>de</strong> la Philips.<br />
-VAD (Vapor Axial Deposition) <strong>de</strong> la NTT.<br />
MATERIALES DE ORIGEN. Las FO están constituidas por sílice (SiO 2 ), el mismo en forma natural tiene una alta<br />
concentración <strong>de</strong> óxidos metálicos. Por ello, mediante reducción, clorinación y <strong>de</strong>stilación con C y Cl se logra su<br />
purificación, <strong>de</strong> forma tal que partiendo <strong>de</strong>:<br />
(SiO 2 Fe + C + Cl 2 ) resulta (CO + FeCl 3 + SiCl 4 ).<br />
Tanto el CO como el FeCl 3 son <strong>de</strong>sechos <strong>de</strong> este proceso con lo que se elimina el Fe contenido en el SiO 2 y se obtiene SiCl 4<br />
(Tetracloruro <strong>de</strong> Silicio) como material base para la producción <strong>de</strong> la preforma. Si bien el SiCl 4 es líquido a temperatura<br />
ambiente se trabaja en la fase <strong>de</strong> vapor para lograr un mejor control en la producción, <strong>de</strong> forma que mediante oxidación o<br />
hidrólisis se obtiene nuevamente el SiO 2 .<br />
En la Fig 01 se muestra el proceso <strong>de</strong> producción <strong>de</strong> MCVD y OVD. A partir <strong>de</strong> una corriente <strong>de</strong> oxígeno molecular O 2 , la<br />
cual es filtrada y controlada en su <strong>de</strong>nsidad <strong>de</strong> flujo, se produce el "burbujeo" en saturadores. El O 2 es un gas a temperatura<br />
ambiente, mientras que el contenido <strong>de</strong> <strong>las</strong> botel<strong>las</strong> (SiCl 4 , GeCl 4 , POCl 3 , etc.) son líquidos. Se tiene entonces una corriente<br />
<strong>de</strong> O 2 con molécu<strong>las</strong> <strong>de</strong> cloruros. El control <strong>de</strong> flujo permite dosificar la <strong>de</strong>nsidad <strong>de</strong> cada compuesto en la reacción. La<br />
proporción <strong>de</strong> ellos da lugar al índice <strong>de</strong> refracción <strong>de</strong>seado, así por ejemplo, mientras el Ge y P incrementan el índice <strong>de</strong><br />
refracción, el B lo reduce. Hasta aquí los métodos <strong>de</strong> producción son idénticos.<br />
Fig 01. Métodos <strong>de</strong> producción <strong>de</strong> la preforma.<br />
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