DAFS - Universidad de Zaragoza
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En el caso del DAFS, como en el caso del EXAFS y de la difracción de fotoelectrones (fotoemisión), la estructura fina se debe a un efecto de interferencia cuantomecánica entre la función de onda saliente del fotoelectrón y la misma dispersada por los átomos vecinos hν H = H + H + H = = E R I ˆ e r r r = − p ⋅ A( r, t) I ∑j m H j 2π f H l l H u I I W ∝ ( ) 2 ∑ f H u + δ ω ω I ∑ − u f h f l ω −ω + + + +... + +... u l 2 Término perturbativo al Ier orden: Fotoelectrón real Absorción, fotoemisión (EXAFS, PhD) Término perturbativo al II orden: Fotoelectrón virtual difracción (DAFS)
Resonant atomic scattering factor f f A(Q,E) = f 0 A(Q) + f’ A(E) + if’’ A(E) Thomson II II Abs. II As δf r 0f’’ A(ω, Q=0) = (ω/4πc) σ tot(ω) f’’ As(E) = f’’ 0As + χ’’ As f’ As(E) = f’ 0As + χ’ As In δf As(E) of As in InAs f’’ 0As χ’’ As oscillations As K-edge : 10867eV χ’ As oscillations Energy (eV) ∆f’’ 0As
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En el caso <strong>de</strong>l <strong>DAFS</strong>, como en el caso <strong>de</strong>l EXAFS y <strong>de</strong> la difracción <strong>de</strong> fotoelectrones<br />
(fotoemisión), la estructura fina se <strong>de</strong>be a un efecto <strong>de</strong> interferencia cuantomecánica<br />
entre la función <strong>de</strong> onda saliente <strong>de</strong>l fotoelectrón y la misma dispersada por<br />
los átomos vecinos<br />
hν<br />
H = H + H + H<br />
=<br />
=<br />
E<br />
R<br />
I<br />
ˆ e r r r<br />
= − p ⋅ A(<br />
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t)<br />
I ∑j<br />
m<br />
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2π<br />
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I<br />
I<br />
W ∝ ( )<br />
2 ∑ f H u +<br />
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+<br />
+...<br />
+ +...<br />
u<br />
l<br />
2<br />
Término perturbativo al Ier<br />
or<strong>de</strong>n:<br />
Fotoelectrón real<br />
Absorción, fotoemisión<br />
(EXAFS, PhD)<br />
Término perturbativo al II or<strong>de</strong>n:<br />
Fotoelectrón virtual<br />
difracción<br />
(<strong>DAFS</strong>)
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