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Deutsche Tagung f ¨ur Forschung mit ... - SNI-Portal

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Nanostrukturen und Grenzflächen Vortrag: Mi., 18:20–18:40 M-V23<br />

Photoelektronen Spektroskopie <strong>mit</strong> harter Röntgenstrahlung für chemisch<br />

sensitive Strukturanalyse und Valenzbandspektroskopie<br />

Jörg Zegenhagen 1 , Tien-Lin Lee 1 , Sebastian Thieß 1 , Christof Kunz 2 , Robert<br />

L. Johnson 2<br />

1 European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, France – 2 Institut für Experi-<br />

mentalphysik, Universität Hamburg<br />

Das Gebiet der Photoelektronen Spektroskopie (PS) <strong>mit</strong> harter Röntgenstrahlung (Hard<br />

X-Ray Photoelectron Spektroscopie, HAXPES) ist durch die Verfügbarkeit von Synchrotronstrahlungsquellen<br />

der dritten Generation zugänglich geworden. Man benötigt<br />

eine brilliante Anregungsquelle, da die Wirkungsquerschnitte für die Elektronenanregung<br />

annähernd <strong>mit</strong> der dritten Potenz der Photonenenergie abfallen. Ein zentraler<br />

Vorteil der HAXPES Technik ist die große Ausdringtiefe von Elektronen hoher kinetischer<br />

Energie. Mit Photoelektronen im 10 keV Energiebereich werden Informationstiefen<br />

im 10 nm Bereich erreicht, ideal um die Stärken der PS auf heutzutage interessante<br />

Nano-Strukturen anzuwenden. Zudem kann <strong>mit</strong> Röntgenmonochromatoren im<br />

harten Röntgenbereich eine exzellente Energieauflösung erzielt werden (ca. 1 meV bei<br />

15 keV). Jedoch ist es zur Zeit noch nicht erwiesen, dass eine entsprechende Auflösung<br />

vom Elektronenspektrometer erzielt werden kann. (Kommerzielle Spektrometer erreichen<br />

zur Zeit maximal 10 keV und eine Auflösung von 50-100 meV). Ein weiterer<br />

Vorteil ergibt sich durch die Kombination von HAXPES <strong>mit</strong> Röntgeninterfrenzfeldern<br />

(X-ray Standing Waves, XSW) wodurch atomare Strukturen element-spezifisch und<br />

auch chemisch spezifisch (d.h. gemäß des Bindungszustandes der Atome eines Elementes)<br />

abgebildet werden können. Der Stand des Gebietes ist zur Zeit am besten in Ref.<br />

1 dokumentiert, den Proceedings des ersten HAXPES Workshops in Grenoble 2003.<br />

Wir werden in unserem Beitrag über die Messung von Wirkungsquerschnitten von<br />

schwach gebundenen Elektronenniveaus im harten Röntgenbereich bis ca. 15 keV berichten,<br />

die wir <strong>mit</strong> einem kommerziellen Elektronenspektrometer (PHI 10-360) und<br />

einer speziellen von uns konstruierten Retardierungslinse analysiert haben. Wir werden<br />

weiterhin schildern wie die Kombination von HAXPES und XSW es erlaubt nachzuweisen,<br />

dass ultra-dünne Schichten des Supraleiters YBa2Cu3O7 auf SrTiO3 in Form<br />

von perowskitischen Cu(Y,Ba)-oxid Einheitszellen wachsen und welchen Atomen in der<br />

SrTiO3 Einheitszelle die verschiedenen Regionen des SrTiO3 Valenzbandes zugeordnet<br />

werden können.<br />

Im Rahmen der laufenden BMBF Förderperiode ist inzwischen zusammen <strong>mit</strong> der<br />

Industrie ein Spektrometer im Bau, das für die Spektroskopie im harten Röntgenbereich<br />

optimiert ist.<br />

[1] HAXPES 2003, proceedings of the workshop on Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy,<br />

ESRF, Grenoble September 11-12, 2003, Editors: Jörg Zegenhagen and Christof<br />

Kunz; Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, section A, Vol. 547, No.<br />

1 (2005).

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