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Deutsche Tagung f ¨ur Forschung mit ... - SNI-Portal

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Methoden und Instrumentierung Poster: Mi., 14:00–16:30 M-P86<br />

Metrologie <strong>mit</strong> Synchrotronstrahlung im PTB-Laboratorium bei BESSY II<br />

Gerhard Ulm 1 , Burkhard Beckhoff 1 , Alexander Gottwald 1 , Roman Klein 1 ,<br />

Michael Krumrey 1 , Ralph Müller 1 , Mathias Richter 1 , Frank Scholze 1 , Reiner<br />

Thornagel 1<br />

1 Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestr. 2-12, 10587 Berlin<br />

Die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) nutzt seit mehr als 20 Jahren Synchrotronstrahlung<br />

für die Metrologie, insbesondere für die Radiometrie [1]. Bei BESSY<br />

II betreibt die PTB ein Laboratorium <strong>mit</strong> gegenwärtig 10 Messplätzen an 4 Ablenkmagnet-<br />

Strahlrohren und an einem Undulator-Strahlrohr. Monochromatisierte Strahlung hoher<br />

spektraler Reinheit steht vom UV bis in den Röntgenbereich (10 keV) zur Verfügung.<br />

Harte Röntgenstrahlung eines 7 T-Wellenlängenschiebers wird bis zu 60 keV genutzt.<br />

BESSY II wird als berechenbare Strahlungsquelle, als primäres Strahlernormal, genutzt,<br />

um Strahlungsquellen und energiedispersive Detektoren (z. B. Si(Li)-Detektoren)<br />

zu kalibrieren. Herausragende Beispiele dieser Art der Nutzung sind die Kalibrierungen<br />

von Teleskopen für Sonnenmissionen und von Detektoren für die Röntgenastronomie<br />

[2]. Hochgenaue Kalibrierungen von Detektoren, z. B. von Photodioden, werden vom<br />

UV bis in den Röntgenbereich durchgeführt, indem diese Detektoren in monochromatisierter<br />

Strahlung <strong>mit</strong> einem Kryoradiometer als primäres Empfängernormal verglichen<br />

werden [3]. Basierend auf diesen absolut kalibrierten Detektoren werden fundamentale<br />

und angewandte Untersuchungen zur Röntgenfluoreszenzanalyse [4] und Studien der<br />

biologischen Wirksamkeit von Röntgenstrahlen durchgeführt [5]. Ein weiteres wesentliches<br />

Arbeitsgebiet ist die Reflektometrie vom UV- bis in den Röntgenbereich. Hier<br />

stellen zur Zeit Arbeiten zur Entwicklung der EUV-Lithographie einen besonderen<br />

Schwerpunkt dar, der im Rahmen mehrerer Kooperationen <strong>mit</strong> Industrieunternehmen<br />

und <strong>Forschung</strong>seinrichtungen bearbeitet wird [6]. Außerdem wird Röntgenreflektometrie<br />

zur Bestimmung von Schichtdicken im nm-Bereich durchgeführt [7].<br />

Der neue, zur Zeit im Aufbau befindliche dedizierte Niederenergie-Elektronenspeicherring<br />

der PTB, die Metrology Light Source (MLS), wird die Messmöglichkeiten im UV- und<br />

VUV-Bereich wesentlich verbessern und bis in den THz-Bereich hinein erweitern [8].<br />

[1] G. Ulm, Metrologia 40 (2003) S101.<br />

[2] M. Richter et al., Adv. in Space Research 37 (2006) 265.<br />

[3] A. Gottwald et al., Metrologia 43 (2006) S125.<br />

[4] B. Beckhoff et al., Solid State Phenom. 92 (2003) 89.<br />

[5] M. Krumrey et al., Radiat. Environ. Biophys. 43 (2004) 1.<br />

[6] R. Klein et al., Microelectr. Eng. 83 (2006) 707.<br />

[7] M. Krumrey et al., Thin Solid Films 459 (2004) 241.<br />

[8] R. Klein et al., Proc. of EPAC 2004, Lucerne, Switzerland (2004) 2290.

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