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Deliverables and Services - IHP Microelectronics

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2009 wurde die Zusammenarbeit zwischen dem Gemeinsamen<br />

Labor <strong>IHP</strong> / BTU und der Abteilung Materialforschung<br />

am <strong>IHP</strong> weiter intensiviert. Neben der<br />

bereits laufenden Arbeit zu MIS-Stapeln mit dünnem<br />

Hf-Oxid für MIS-LEDs wurden gemeinsame Arbeiten zu<br />

dünnen Ge-Epischichten auf Si begonnen, wobei das Gemeinsame<br />

Labor für die Bewertung der optischen und<br />

elektrischen Eigenschaften verantwortlich zeichnet.<br />

Allein zu den Halbleitermaterialien und -technologien<br />

sind im laufenden Jahr vom Gemeinsamen Labor 30<br />

Arbeiten in Fachzeitschriften publiziert oder zur Veröffentlichung<br />

akzeptiert worden, mehr als 30 Vorträge<br />

wurden gehalten, darunter 4 eingeladene. Außerdem<br />

wurden 2009 zwei Tagungsbände herausgebracht, zum<br />

E-MRS Spring Meeting 2008 (Symposium K), und zur<br />

GADEST 2009.<br />

Für die laufenden Projekte st<strong>and</strong>en im Jahr 2009 mehr<br />

als 700 T Euro eingeworbene Drittmittel zur Verfügung,<br />

die durch das <strong>IHP</strong> bzw. die BTU verwaltet wurden.<br />

Hervorzuheben ist die Ausrichtung der 13. Internationalen<br />

Konferenz „Gettering <strong>and</strong> Defect Engineering<br />

in Semiconductor Technology“ (GADEST 2009) durch<br />

das Gemeinsame Labor zusammen mit dem <strong>IHP</strong>, woran<br />

mehr als 140 Wissenschaftler aus 20 Ländern teilnahmen.<br />

Das Gemeinsame Labor unterstützt das Lehrangebot<br />

der BTU mit Vorlesungen, Übungen und Praktika. Weiter<br />

beteiligt es sich an der Graduiertenschule DEDIS-Nano<br />

der BTU. Im Jahr 2009 haben Mitarbeiter des Gemeinsamen<br />

Labors eine Masterarbeit und eine Promotion<br />

abgeschlossen.<br />

Weiterführende Informationen über das Gemeinsame<br />

Labor sind unter www.jointlab.de abrufbar.<br />

G e M e I N S A M e L A B o r e – J o I N t L A B S<br />

We intensified the cooperation between the Joint lab<br />

<strong>and</strong> the IHp department Materials Research. In addition<br />

to the existing cooperations on MIS-stacks with<br />

thin Hafniumoxide for MIS-leDs, joint activities on<br />

thin epitaxial Germanium layers on silicon were started,<br />

with the Joint lab responsible for the characterisation<br />

of the optical <strong>and</strong> electrical properties.<br />

In 2009 the staff of the Joint lab saw 30 journal papers<br />

published or accepted for publication, gave more<br />

than 30 lectures, among them 4 invited ones, all related<br />

to semiconductor materials <strong>and</strong> technologies alone.<br />

In addition, two monographs on the e-MRS Spring<br />

Meeting 2008 (Symposium K) <strong>and</strong> the GADeSt 2009<br />

were edited <strong>and</strong> published.<br />

More than € 700k third-party funds were available for<br />

the projects running in 2009. the funds were administrated<br />

by the IHp or by the Btu.<br />

We would also like to highlight the organisation of<br />

the 13th International Conference “Gettering <strong>and</strong> Defect<br />

engineering in Semiconductor technology (GA-<br />

DeSt 2009)” by the Joint lab <strong>and</strong> the IHp with 140<br />

participating scientists from 20 countries.<br />

the Joint lab supports teaching at Btu Cottbus by<br />

conducting lectures, exercises <strong>and</strong> practical courses.<br />

In addition, it contributed to the graduated school<br />

DeDIS-nano of the Btu. In 2009, one phD thesis <strong>and</strong><br />

one master thesis were finished by members of the<br />

Joint lab.<br />

For further information about the Joint lab please visit<br />

the website www.jointlab.de.<br />

A n n u A l R e p o R t 2 0 0 9<br />

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