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Deliverables and Services - IHP Microelectronics

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RF-MEMS Integration<br />

8 A n n u A l R e p o R t 2 0 0 9<br />

A u S G e w ä H L t e p r o J e K t e – S e L e C t e d p r o J e C t S<br />

Das Hauptziel dieses Projektes ist die Integration von<br />

RF-MEMS in einen bestehenden SiGe-BiCMOS-Prozess.<br />

Dies bietet die Möglichkeit, RF-MEMS-Schalter in einer<br />

hochmodernen Prozesslinie herzustellen und in komplexen<br />

BiCMOS-RFICs zu nutzen.<br />

Im Bereich RF-MEMS wurde in den letzten Jahren ein<br />

erheblicher Forschungsaufw<strong>and</strong> betrieben, aber die industrielle<br />

Umsetzung ging trotz der gezeigten Vorteile<br />

wie geringe Verluste und hohe Linearität nur langsam<br />

voran. Ein wesentlicher Grund dafür ist, dass bei der<br />

Herstellung von RF-MEMS meist spezielle Technologien<br />

nötig waren und dabei z.B. Schwierigkeiten wie Sticking<br />

und Verbindungsprobleme mit <strong>and</strong>eren Teilen des<br />

Systems auftraten.<br />

Aufgrund der Abmessungen der RF-MEMS-Schalter<br />

macht der Einsatz nur im mm-Wellenlängenbereich<br />

Sinn. Dort aber kann die Technologie entscheidend<br />

zum Anstieg der Integrationsdichte und Funktionalität<br />

beitragen und ermöglicht somit ein höheres Level an<br />

Intelligenz in mutifunktionellen Mikrosystemen. Der<br />

IC-Entwurf wird zeigen, wie der integrierte RF-MEMS-<br />

Schalter in konfigurierbaren ICs für verschiedenste Anwendungen<br />

im Spektrum der mm-Wellenlängen genutzt<br />

werden kann. Das Ziel ist es, st<strong>and</strong>ardisierte Bausätze<br />

rentabel zu nutzen, welche in großer Stückzahl und programmierbar<br />

für spezifische Anwendungen hergestellt<br />

werden können. Dies verhindert in vielen Fällen die<br />

Notwendigkeit für den anwendungsspezifischen IC-Entwurf,<br />

verringert die Kosten durch das hohe Marktvolumen<br />

und die kürzeren Entwicklungszeiten und beseitigt<br />

Hindernisse, welche zurzeit die industrielle Umsetzung<br />

begrenzen.<br />

rF MeMS Integration<br />

the main goal of this project is the integration of<br />

RF MeMS into an existing SiGe BiCMoS process. this<br />

leads the way to the fabrication of RF MeMS in a high<br />

yield industrial processing line <strong>and</strong> the use of RF<br />

MeMS switches in complex BiCMoS RFICs.<br />

RF MeMS have seen significant global research efforts<br />

over the last years, but their industrial uptake has<br />

been very slow, despite their demonstrated advantages<br />

such as low loss <strong>and</strong> especially high linearity.<br />

A significant reason for this dilemma is that RF MeMS<br />

have mostly been fabricated in dedicated technologies,<br />

with inherent technology-related difficulties<br />

such as sticking <strong>and</strong> face interfacing problems with<br />

the remainder of the system. A major objective of this<br />

project is to demonstrate the integration of RF MeMS<br />

into an existing state-of-the-art SiGe BiCMoS process<br />

of the IHp.<br />

Due to the size of RF MeMS switches, their use only<br />

makes sense at millimeter-wave frequencies, but there<br />

this technology can contribute significantly to<br />

an increased integration density <strong>and</strong> functionality.<br />

the technological advance will allow a higher level<br />

of intelligence in multifunctional microsystems. the<br />

IC design approach will investigate how the fully integrated<br />

RF MeMS switches can be applied in reconfigurable<br />

„core ICs“, which can be used over a wide<br />

range of the millimeter-wave spectrum for a variety<br />

of applications. the goal is to show a viable way to<br />

„off-the-shelf“ building blocks, which can be fabricated<br />

in large quantity <strong>and</strong> programmed for a specific<br />

application. this eliminates the need for applicationspecific<br />

IC design in many cases, lowers cost through<br />

higher market volume, reduces design cycle time <strong>and</strong><br />

hence removes significant obstacles which currently<br />

limit industrial take-up.

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