13.07.2015 Views

Study of radiation damage in silicon detectors for high ... - F9

Study of radiation damage in silicon detectors for high ... - F9

Study of radiation damage in silicon detectors for high ... - F9

SHOW MORE
SHOW LESS
  • No tags were found...

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

9. Povzetek doktorskega dela 115Skica preproste diode, kakrsne smo uporabljali v predstavljenem delu, je prikazana nasliki 9.1.K izmerjenemu signalu prispevajo le pari, zbrani v osiromasenem podrocju diode.Za cim vecje razmerje med signalom <strong>in</strong> sumom je torej potrebno osiromasiti celotno prostorn<strong>in</strong>odetektorja. Da bi to dosegli s cim nizjimi napetostmi, se na eni strani spojap-n (obicajno n) uporablja sibko dopiran polprevodnik. V tem primeru velja za glob<strong>in</strong>oosiromasenega podrocja w(V )w(V ) =s2 Si 0e 0 N effV : (9.1)kjer je N eff efektivna koncentracija primesi 46 , e 0 osnovni naboj, Si 0 dielekrticnost silicija<strong>in</strong> V napetost v zaporni smeri. Napetost polnega osiromasenja V FD je tako dolocena zenacboV FD = e 0N eff W 22 Si 0 (9.2)kjer je W debel<strong>in</strong>a diode oz. detektorja. Tipicna debel<strong>in</strong>a pozicijsko obcutljivih silicijevihdetektorjev je 300 m, napetosti polnega osiromasenja pa se gibljejo med 10 <strong>in</strong> 100 V.Napetost polnega osiromasenja merjenega vzorca lahko dolocimo z merjenjem C=Vkarakteristike (kapaciteta v odvisnosti od napetosti). Ce je N eff konstantna po glob<strong>in</strong>ivzorca, je odvisnost kapacitete od zaporne napetosti podana zC(V )= Si 0 Sw= rSi 0 e 0 N eff2VS (9.3)kjer je S povrs<strong>in</strong>a vzorca. Za izpeljavo smo uporabili C(V 0 ) = ( dQ ) dV V =V 0, enacbo 9.1 <strong>in</strong>zvezo Q = e 0 N eff Sw. Iz enacbe 9.3 je razvidno, da dokler ne osiromasimo celotnegavzorca, kapaciteta upada z narascajoco napetostjo. Za napetosti, visje od napetosti polnegaosiromasenja, pa je kapaciteta od napetosti neodvisna. Tako lahko napetost polnegaosiromasenja dolocimo s polozajem preloma, N eff pa iz strm<strong>in</strong>e grafa 1=C 2 proti Vd(1=C 2 (V ))dV=2e 0 Si 0 N eff S 2 : (9.4)9.1.2 Tvorba sevalnih poskodbEnergijske izgube ob prehodu delca skozi silicijev kristal lahko razdelimo na ionizirajoce <strong>in</strong>neionizirajoce. Zaradi hitre rekomb<strong>in</strong>acije prostih nosilcev naboja ionizirajoce poskodbe46Efektivna koncentracija primesi je dolocena kot absolutna vrednost razlike med koncentracijo donorjev(N D )<strong>in</strong>akceptorjev (N A ) N eff = jN D ; N A j.

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!