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JAEA-Review-2010-065.pdf:15.99MB - 日本原子力研究開発機構

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Surface Modification of Vulcanized Rubber by<br />

Radiation Co-grafting<br />

N. Mizote a) , A. Katakai b) and M. Tamada b)<br />

a) Mitsuba Co. Ltd.,<br />

b) Environmental and Industrial Materials Research Division, QuBS, <strong>JAEA</strong><br />

In this study, hydrophilic monomer, 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and hydrophobic monomer,<br />

3-(Methacryloyloxy) propyltris (trimethylsiloxy) silane (MPTS), were co-grafted on vulcanized rubber surface by<br />

simultaneous electron beam irradiation. Monomer solution was prepared by mixing of HEMA and MPTS. Composition<br />

of graft layer was investigated by ATR-FTIR and SEM-EDX. As a result, it was found that graft polymer of MPTS was<br />

eccentrically located in the near-surface region in the case that MPTS concentration of monomer solution was about 90<br />

weight percent.<br />

加硫ゴム製品は摩擦、粘着性、耐摩耗性等の向上を<br />

目的として塩素化処理やコーティングなどの表面処理<br />

が行われている。しかしこれらの表面処理は、塩素に<br />

よる環境負荷やコーティング剥離による耐久性の問題<br />

を有するため、新しい表面改質が求められている。我々<br />

は電子線照射グラフト重合法による加硫ゴム表面改質<br />

を検討している。本研究では、親水性モノマーの HEMA<br />

と疎水性モノマーMPTS の電子線同時照射共グラフト<br />

によるゴム表面改質特性について評価した。<br />

ゴム基材として、カーボンブラックを配合した厚さ<br />

2 mm の架橋 EPDM ゴム用いた。HEMA と MPTS を所<br />

定の割合で混合したモノマー溶液を用い、加速エネル<br />

ギー2 MeV、電流値 1 mA、照射線量 7 kGy の照射条件<br />

で電子線同時照射グラフト重合を行った。グラフト重<br />

合した基材表面の組成を、ATR-FTIR 法で得られた<br />

MPTS グラフトポリマーの Si-C 吸収(845 cm -1 )と EPDM<br />

の C-H 3 吸収(1375 cm -1 )の吸光度比により評価した。<br />

表面改質層の深さ方向の分布は、断面の SEM-EDX で<br />

測定した Si 元素分布により評価した。<br />

Fig. 1 にモノマー溶液の MPTS 濃度と、ATR-FTIR で<br />

求めた MPTS グラフトポリマー由来の Si-C 吸光度比の<br />

関係を示す。Si-C 吸光度比は MPTS 濃度に対し直線的<br />

に増加せず、MPTS 濃度 90 wt%付近で極大ピークを示<br />

した。Fig. 2 にモノマー溶液の MPTS 濃度と SEM-EDX<br />

により求めたグラフト層深さの関係を示す。MPTS 濃度<br />

Absorbance ratio<br />

(845cm -1 /1375cm -1 )<br />

2-07<br />

30<br />

20<br />

10<br />

0<br />

0 20 40 60 80 100<br />

Concentration of MPTS(wt%)<br />

Fig. 1 Relationship between absorbance ratio of Si-C<br />

and MPTS concentration.<br />

<strong>JAEA</strong>-<strong>Review</strong> <strong>2010</strong>-065<br />

- 47 -<br />

の増加に伴いグラフト層深さはおおむね一様な増大を<br />

示しており、ATR-FTIR で得られた結果のような MPTS<br />

高濃度域での特異的な変化は見られなかった。MPTS<br />

高濃度領域での Si 元素デプスプロファイルの比較を<br />

Fig. 3 に示す。MPTS 100 wt%では表面から内部へ緩や<br />

かに Si 検出強度が低下していくのに対し、HEMA が少<br />

量添加された MPTS 90 wt%、95 wt%では表面から 10 µm<br />

程度のごく浅い領域に強いピーク状の Si 強度プロファ<br />

イルが見られた。この結果は、MPTS 100%よりも HEMA<br />

が少量含まれたほうがより表面近傍に MPTS が偏在す<br />

ることを示しており、ATR-FTIR の結果と一致する。<br />

これまでの研究で、HEMA グラフト層は 10 µm 程度<br />

の厚さであることが確認されており、MPTS は HEMA<br />

グラフト層に選択的に取り込まれると考えられる。<br />

Depth of graft layer(µm)<br />

100<br />

90<br />

80<br />

70<br />

60<br />

50<br />

40<br />

30<br />

20<br />

10<br />

0<br />

0 20 40 60 80 100<br />

Concentration of MPTS(wt%)<br />

Fig. 2 Relationship between depth of graft layer and<br />

MPTS concentration.<br />

(a) (b) (c)<br />

Fig. 3 Cross-sectional SEM micrograph of graft<br />

layer and depth profile of Si: (a) 90 wt% MPTS,<br />

(b) 95 wt% MPTS, (c) 100 wt% MPTS.

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