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AFM 原理與結構講義

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Atomic Force Microscopy<br />

原子力學顯微鏡


概述<br />

原子力顯微鏡的操作原理<br />

原子力顯微鏡之分類<br />

接觸式<br />

非接觸式<br />

間歇接觸式<br />

原子力顯微鏡之探針<br />

原子力顯微鏡之解析度<br />

參考資料


概述<br />

自從1982年G. Binning & H. Rohrer發展出<br />

掃瞄穿隧顯微鏡(Scanning Tunneling<br />

Microscope),衍生出一系列掃瞄探針顯微<br />

鏡(Scanning Probe Microscope)。


STM<br />

MFM<br />

EFM<br />

SThM<br />

SNOM<br />

LFM<br />

SPMs 偵測物理量 橫向解析度<br />

Scanning Tunneling<br />

Microscope<br />

Magnetic Force<br />

Microscope<br />

Electrostatic Force<br />

Microscope<br />

Scanning Thermal<br />

Microscope<br />

Scanning Near-Field<br />

Optical Microscope<br />

Lateral Force<br />

Microscope<br />

穿隧電流 0.2 nm<br />

磁力 0.2 nm<br />

靜電 50 nm<br />

熱 10 nm<br />

近場光波 20 nm<br />

側力 2 nm


‧由於STM侷限於試片的導電性質,使得應用<br />

範圍大大的減少,為了能有更廣泛的應用<br />

科用,故改用力場作回饋而發展出原子力<br />

顯微鏡(atomic force microscope,<br />

<strong>AFM</strong>),而因為對導體及絕緣體均有三維空<br />

間的顯影能力,所以成為運用最廣泛的掃<br />

描探針顯微鏡


比較<br />

掃描探針顯微鏡具有三個傳統顯微鏡無法<br />

達到的重大突破:<br />

掃描探針顯微鏡具有極高度的解析力<br />

掃描探針顯微鏡具有三維立體的成像能力<br />

掃描探針顯微鏡可以在多種環境下操作


應用<br />

由於原子力顯微鏡對三維空間有極為出色<br />

的顯像能力,並且可以在大氣環境中直接<br />

進行影像視察,所以在很多科學上被受重<br />

用。<br />

materials science<br />

semiconductor physics<br />

biology<br />

electrochemistry<br />

organic chemistry<br />

catalysis<br />

micromechanics


<strong>AFM</strong>的操作原理 原子力顯微鏡(<strong>AFM</strong>)屬於掃描探針<br />

顯微技術(SPM)的一支,此類顯微<br />

技術都是利用特製的微小探針,來<br />

偵測探針與樣品表面之間的某種交<br />

互作用,如穿隧電流、原子力、磁<br />

力、近場電磁波等等,然後使用一<br />

個具有三軸位移的壓電陶瓷掃描<br />

器,使探針在樣品表面做左右前後<br />

掃描(或樣品做掃描),並利用此<br />

掃描器的垂直微調能力及迴饋路,<br />

讓探針與樣品問的交互作用在掃描<br />

過程中維持固定,兩者距離在數至<br />

數百A°(0.1-10nm),而只要記錄<br />

掃描面上每點的垂直微調距離,我<br />

們便能得到樣品表面的等交互作用<br />

圖像,這些資料便可用來推導出樣


photodiode<br />

piezo<br />

x<br />

z<br />

laser<br />

y<br />

cantilever<br />

cantilever tip


原子力顯微鏡的示意圖


原子力顯微鏡(<strong>AFM</strong>)的結構示意圖


原子力顯微鏡(<strong>AFM</strong>)屬於掃描探針顯微技術<br />

(SPM)的一支,此類顯微技術都是利用特製的微<br />

小探針,來偵測探針與樣品表面之間的某種交互<br />

作用,如穿隧電流、原子力、磁力、近場電磁波<br />

等等,然後使用一個具有三軸位移的壓電陶瓷掃<br />

描器,使探針在樣品表面做左右前後掃描(或樣<br />

品做掃描),並利用此掃描器的垂直微調能力及<br />

迴饋電路,讓探針與樣品問的交互作用在掃描過<br />

程中維持固定,此時兩者距離在數至數百A°<br />

(0.1-10nm)之間,而只要記錄掃描面上每點的<br />

垂直微調距離,我們便能得到樣品表面的等交互<br />

作用圖像,這些資料便可用來推導出樣品表面特<br />

性。


SPM tip<br />

tipholder<br />

sample<br />

piezo<br />

translator<br />

motor<br />

control<br />

photodiode<br />

mirror<br />

laser beam<br />

fluid in fluid out<br />

O-ring<br />

x,y,z piezo translator<br />

fluid cell<br />

in air and in buffer solutions<br />

sample


movement of the <strong>AFM</strong> tip along the sample<br />

Mg 2<br />

+<br />

Mg 2<br />

+<br />

<strong>AFM</strong> tip<br />

Mg 2<br />

+<br />

Mg 2<br />

+<br />

Mg 2<br />

+<br />

superhelical DNA plasmid<br />

Mg 2<br />

+<br />

path of <strong>AFM</strong> tip<br />

negatively charged mica surface<br />

DNA double helix


原子力顯微鏡的分類<br />

‧接觸式 (Contact <strong>AFM</strong>)<br />

‧非接觸式 (Non-Contact <strong>AFM</strong>)<br />

‧間歇接觸式 (Intermittent-Contact <strong>AFM</strong>)


接觸式<strong>AFM</strong> 圖<br />

在接觸式操作下,探針與樣<br />

品問的作用力是原子間的排<br />

斥力,這是最早被發展出來<br />

的操作模式,由於排斥力對<br />

距離非常敏感,所以接觸式<br />

<strong>AFM</strong>較容易得到原子解析<br />

度。在一般的接觸式量測<br />

中,探針與樣品問的作用力<br />

很小,約為10-6至10-10N<br />

(Newton),但由於接觸面<br />

積極小,因此過大的作用力<br />

仍會損壞樣品表面,但較大<br />

的的作用力通常可得到較佳<br />

的解析度。


‧在接觸式操作下,探針與樣品問的作用力是原子間<br />

的排斥力,這是最早被發展出來的操作模式,由於<br />

排斥力對距離非常敏感,所以接觸式<strong>AFM</strong>較容易得<br />

到原子解析度。在一般的接觸式量測中,探針與樣<br />

品問的作用力很小,約為10-6至10-10N<br />

(Newton),但由於接觸面積極小,因此過大的作<br />

用力仍會損壞樣品表面,但較大的的作用力通常可<br />

得到較佳的解析度。<br />

‧選擇適當的的作用力,接觸式的操作模式是十分重<br />

要的。接觸式的<strong>AFM</strong>利用探針和樣品原子間的排斥<br />

力(repulsive force),原子力間的排斥力對距<br />

離的變化是非常敏感。是利用具有懸臂的探針接觸<br />

且輕壓表面,由於反作用力使得探針的懸臂產生偏<br />

折,而偏折量的大小代表反作用力的大小,所以掃<br />

描表面時利用維持相同的偏折量就可以描繪出3D的<br />

表面結構 。


原子間作用力<br />

有幾種典型的力量會造成原子力顯微鏡懸<br />

臂的歪斜,最普遍的是凡得瓦力(van der<br />

Waals force),其它還有如electrostatic,<br />

magnetic force, thermal gradients, and<br />

optical intensity, ….


原子間凡得瓦力和距離關係


恆定-高度或恆定-力量


接觸式原子力顯微鏡<br />

‧接觸式<strong>AFM</strong>是一個排斥性的模式,探針尖<br />

端和樣品之間做柔軟性的「實際接觸」,<br />

當探針尖端輕輕的掃過樣品表面時,接觸<br />

的力量引起懸臂彎曲,進而得到樣品的表<br />

面圖形。<br />

‧由於是接觸式掃瞄,在掃瞄樣品時可能會<br />

使樣品表面變形。<br />

‧經過多次掃描後,探針或者樣品有鈍化的<br />

現象。


非接觸式原子力顯微鏡<br />

‧需要使用較堅硬的懸臂(以防與樣品接觸)<br />

‧所得到的信號很小,需要更靈敏的裝置<br />

‧由於為非接觸狀態,<br />

‧對於研究柔軟或有彈性樣品較佳<br />

‧探針不會有鈍化的效應<br />

‧誤判的現象


間歇接觸式原子力顯微鏡<br />

‧類似非接觸式<strong>AFM</strong><br />

‧比非接觸式更靠近樣品表面<br />

‧探針有時會擊中,或輕打樣品表面<br />

‧損害樣品的可能性比接觸式少(不用側面力, 摩<br />

擦或拖曳)<br />

‧樣品表面起伏較大的大型掃描比非接觸式更有效


原子力顯微鏡之探針


原子力顯微鏡的解析度


PS/PMMA(30/70)<br />

25μm on the gold<br />

substrate


20--40 nm, 相分離<br />

1-3 μm<br />

PS/PMMA(50/50) 100 nm<br />

on the gold substrate


20 μm<br />

PS/PMMA (30/70) 100 nm<br />

on the gold substrate


PS/PMMA (30/70) 100 nm<br />

on the gold substrate<br />

surface etching with<br />

cyclohexane


PS 37dyne/cm


H 15-20 nm<br />

W 1-2μm<br />

PS/PMMA (30/70) 100nm<br />

coated on the hydrophilic<br />

silicon substrate


PS/PMMA (30/70) 120nm<br />

coated on the hydrophobic<br />

silicon substrate<br />

PS segments with lower<br />

surface free energy<br />

Minimize the polymersubstrate<br />

interfacial free<br />

energy


參考資料<br />

1. Dawn Bonnell; Scanning Probe Microscopy<br />

and Spectroscopy Theory, techniques, and<br />

Applications (Second Edition)<br />

2. T. Kajiyama, Film thickness dependence<br />

of the surface structure of immiscible<br />

polystyrene/poly(methly methacrylate)<br />

blends,Marcromolecules,29,9,3232<br />

(1996)

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