View - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

4.4 Mikroelektroden-Arrays 65
Für die anschließende Nanostrukturierung der Elektrodenbereiche auf den MEAs, wie sie
in Abb. 4.14 dargestellt ist, wurden die passivierten MEAs wie folgt weiter prozessiert:
1. Noch im Reinraum wurde auf die ONO-Schicht mit einem Elektronenstrahlverdampfer
ein Aluminiumfilm mit einer Dicke von 800 nm aufgebracht. Die Aufdampfanlage
des Modells BAK640 stammte von der Firma Unaxis GmbH (Hanau).
2. Außerhalb des Reinraums wurde diese Aluminiumschicht nun anodisiert, wie bereits
in Kapitel 4.1.1 vorgestellt wurde. Standardmäßig wurde für den Ätzprozeß 0, 3M
Oxalsäure bei einer Spannung von 40 V verwendet.
3. Nach der Porenerweiterung und der Entfernung der Barrier Layer in 5 wt% Phosphorsäure
für ca. 40 Min folgte die Galvanisierung im Goldbad zur Füllung der
entstandenen Poren.
4. Im letzten Schritt wurde die Aluminiumoxidmembran in 20 wt% KOH entfernt, so
dass auf den Elektrodenfenstern freistehende Pillars verblieben.