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5.4 Nanostrukturierung von Gold-Mikroelektroden 115
mit dem Elektronenstrahlverdampfer 800 nm Aluminium auf die Wafer aufgebracht.
Anodisierung und Porenerweiterung dieser MEA-Chips verliefen problemlos, und unter
dem Lichtmikroskop war anschließend eine intakte ONO-Schicht zu sehen. Nach der
Galvanisierung wurde das Al2O3 in KOH entfernt. Auch nach diesem Schritt war die
ONO-Schicht noch intakt, und bereits im Lichtmikroskop waren Abscheidungen auf den
Elektroden zu erkennen. Die weitere Untersuchung im REM zeigte unterschiedliche Ergebnisse.
Auf einigen Elektrodenfenstern wurde entweder gar kein Gold abgeschieden,
oder die Elektroden waren großflächig mit galvanischem Gold bedeckt (s. Abb. 5.40(a)
und 5.40(b)). Auf einzelnen MEA-Chips waren in dieser Versuchsreihe aber auch erstmals
Gold-Nanopillars in den Elektrodenfenstern zu sehen, wie Abb. 5.40(c) zeigt.
(a) Keine Abscheidung von Gold (b) Großflächige Goldabscheidung
(c) Gold-Nanopillars auf einer Mikroelektrode,
hergestellt in 800 nm dickem Al-Template
Abbildung 5.40: REM-Aufnahmen von Mikroelektroden, die am Forschungszentrum
caesar prozessiert und im IBN-2 nanostrukturiert wurden