View - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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5.4 Nanostrukturierung von Gold-Mikroelektroden 113<br />
die Galvanisierung haben diese ONO-Schichten zunächst überstanden. Allerdings kam es<br />
wiederum im letzten Schritt, der Entfernung des Aluminiumoxid-Templates in KOH, zur<br />
Ablösung der Passivierung. Diese Beobachtung indizierte eine schlechte Beständigkeit der<br />
Oxford-Passivierungen gegenüber Laugen. Abb. 5.37(b) und 5.37(c) dokumentieren, dass<br />
während der Galvanisierung im Goldbad nur teilweise eine Abscheidung auf den Elektroden<br />
stattgefunden hat. Dabei konnten allerdings keine Nanopillars produziert werden,<br />
sondern die Abscheidung erfolgte - wenn überhaupt - großflächig. Dieses Resultat legt die<br />
Vermutung nahe, dass die Aluminiumschicht nicht vollständig auf den Elektroden gehaftet<br />
hat, so dass das Gold während der galvanischen Deposition an den Passivierungskanten<br />
unter die Aluminiumschicht gelangen konnte und sich daher nicht in den Poren abschied.<br />
Wie in Abb. 5.37(a) zu sehen ist, zeigten die Leiterbahnen auf den Chips nach Nanostrukturierung<br />
außerdem unterschiedliche Farben. Für diese Veränderung gibt es bislang keine<br />
Erklärung. Auch diese ONO-Schichten schieden aufgrund der schlechten Ergebnisse als<br />
Passivierung für nanostrukturierte MEAs aus.<br />
(a) Elektrochemische<br />
Kupferabscheidung auf Leiterbahnen<br />
(b) Kupferabscheidung im Detail<br />
Abbildung 5.38: REM-Aufnahmen elektrochemischer Kupferabscheidung durch Pinholes<br />
in der NONONO-Passivierung [101]<br />
5) NONONO-Schicht, prozessiert an der FH Zweibrücken<br />
An der FH Zweibrücken wurden mittels PECVD 800 nm dicke NONONO-Schichten auf<br />
verschiedenen Gold-Elektroden aus <strong>Jülich</strong> deponiert mit der folgenden Schichtabfolge:<br />
150 nm / 100 nm / 150 nm / 100 nm / 150 nm / 200 nm. Hierfür wurde ein Plasmalab System<br />
133 der Firma Oxford Instruments Plasma Technology genutzt. Die Isolierfähigkeit<br />
dieser Passivierungen wurde mittels elektrochemischer Abscheidung von Kupfer geprüft.<br />
In den REM-Aufnahmen in Abb. 5.38 ist zu erkennen, dass die Schichten entgegen einer<br />
ersten Prüfung im Lichtmikroskop nicht dicht waren, da in einigen Pinholes Kupfer abge-