View - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

112 Kapitel 5: Ergebnisse
Gold-MEAs auf, wie in Abb. 5.36 zu sehen ist. Die ONO-Filme blätterten ab, so dass die
darunterliegenden Leiterbahnen nicht mehr isoliert waren. Auch diese Schichten wurden
nicht weiter für die Passivierung von MEAs eingesetzt.
(b) Mikroelektrode ohne
Goldabscheidung im REM
(a) Zwei MEA-Chips mit ONO-Schichten von Oxford
Instruments nach der Anodisierung
(c) REM-Aufnahme von Elektrode mit
großflächiger Goldabscheidung
Abbildung 5.37: MEA-Chips mit ONO-Schichten von Oxford Instruments
4) ONO-Schicht, hergestellt bei Oxford Instruments Plasma Technology
ONO-Schichten, die bei Oxford Instruments auf den planaren Jülicher Gold-MEAs deponiert
wurden, hatten eine Gesamtdicke von 600 nm mit einer ONO-Schichtfolge von 100 nm
/ 400 nm / 100 nm. Die Abscheidung der ONO-Schichten wurde in einer Oxford Plasmalab
80+ Anlage durchgeführt. Für die anschließende Anodisierung wurden im Forschungszentrum
caesar mit dem Elektronenstrahlverdampfer Aluminiumschichten mit 290 nm und
800 nm Dicke aufgebracht. Auffällig war beim anschließenden Prozess zur Nanostrukturierung
der MEAs, dass sich die Passivierung von den Chips löste (s. Abb. 5.37(a)).
Die Prozessschritte in Kontakt mit Säuren (Anodisierung und Porenerweiterung) sowie