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Schaltungstechnik

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6.1 Eigenschaften von Feldeffekttransistoren 371<br />

Die Ladungsträgerbeweglichkeit im n-Gebiet n unterscheidet sich beträchtlich<br />

von der im p-Gebiet. Es gilt in etwa n 25 p. Insofern ist bei gleicher<br />

Geometrie der N-Kanal Transistor deutlich stromergiebiger als der P-Kanal Transistor.<br />

S<br />

UGS G D UDS Enhanced<br />

Gate<br />

Kanal<br />

Oxid<br />

n +<br />

Depletion<br />

Zone<br />

B<br />

p -<br />

Bild 6.1-15: Idealisierter prinzipieller Aufbau des N-Kanal MOS-FET mit einem abgeschnürten<br />

N-Kanal – „Inversionskanal“ unterhalb des Gate<br />

Anders als bei Sperrschicht-Feldeffekttransistoren sind bei MOSFET selbstsperrende<br />

Typen (Anreicherungstypen = Enhancementtype) möglich. In diesem Fall ist<br />

ohne Anlegen einer Gate-Spannung der Transistor gesperrt. Erst mit Anlegen einer<br />

hinreichend großen Gate-Spannung bildet sich über die Inversionsschicht ein leitfähiger<br />

Kanal aus, dessen Leitfähigkeit wiederum über die Raumladungszonen<br />

gesteuert werden kann. Das Symbol und die physikalische Ersatzanordnung eines<br />

N-Kanal bzw. P-Kanal MOSFET zeigt das Bild 6.1-16. Der Substratanschluss<br />

(Bulkanschluss) wird bei der symbolischen Darstellung oft zur besseren Lesbarkeit<br />

weggelassen, da in vielen Anwendungen der Substratanschluss global festliegt.<br />

Häufig unterscheidet sich das Symbol für den Anreicherungstyp von dem des Verarmungstyps<br />

dadurch, dass beim Anreicherungstyp die Symbollinie zwischen<br />

Source und Drain unterbrochen ist, beim Verarmungstyp aber durchgezogen wird.<br />

Im Weiteren wird für den Anreicherungstyp und den Verarmungstyp dasselbe Symbol<br />

(mit unterbrochener Linie) verwendet. Es muss die Steuerspannung U GS so<br />

gewählt werden, dass die Schwellspannung überschritten wird, um einen Stromfluss<br />

zu bewirken. Die Schwellspannung lässt sich durch die Bulk-Source-Spannung<br />

U BS beeinflussen. Bei U BS = 0 ist die Schwellspannung gleich dem Parameter<br />

VTO. Prinzipiell muss das Bulk-Potenzial so liegen, dass der pn-Übergang zwischen<br />

Source und Bulk und der pn-Übergang zwischen Drain und Bulk gesperrt ist.<br />

Beim N-Kanal MOSFET sollte das Bulk-Potenzial möglichst niedrig liegen, beim<br />

P-Kanal MOSFET möglichst hoch liegen.<br />

U SB<br />

n +

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