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Schaltungstechnik

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5.1 Eigenschaften und Kennlinien von Bip.-Transistoren 265<br />

Der Bipolartransistor wird auf einer ca. 0,3mm dicken Si-Scheibe gefertigt. Dazu<br />

benötigt man Strukturierungs- und Dotierungsprozesse (z.B. Diffusionsprozesse)<br />

zur Herstellung und Dotierung der Basiszone und der darin eingelagerten Emitterzone.<br />

Komplexer stellt sich der Aufbau in planarer Technik dar (Bild 5.1-10), wenn<br />

der Transistor von seiner Umgebung isoliert werden soll. Dazu müssen zusätzlich<br />

zur Isolation des Transistorelements beitragende gesperrte pn-Übergänge vorgesehen<br />

werden, die eine Sperrschichtkapazität C CS aufweisen. Die Bahnwiderstände<br />

r ex und r cx können in der Regel vernachlässigt werden.<br />

Isolationsrahmen<br />

p<br />

Kollektor<br />

n +<br />

n<br />

n<br />

p<br />

+<br />

rb Cje rex Cje Ccs rcx3 Cc n<br />

rcx1 C<br />

Injektions c<br />

Strom<br />

r cx2<br />

p<br />

Basis<br />

Buried Layer<br />

Substrat<br />

Emitter<br />

Bild 5.1-10: Physikalischer Aufbau eines planaren npn-Bipolartransistors mit isolierenden<br />

pn-Übergängen für integrierte Anwendungen<br />

Transistoreffekt: Die aktive Zone des Transistors zeigt modellhaft stark vereinfacht<br />

Bild 5.1-11 in einer linearen (nur von x abhängigen) Darstellung. An der<br />

Grenzschicht zwischen Emitter und Basis (bei x = 0) gelangen aufgrund der<br />

Flussspannung an der Emitter-Basis Diode Elektronen in die Basiszone (Elektronendichte<br />

an der Grenzschicht: np(0) gesteuert durch UB’E). Die Ladungen der<br />

Elektronen Qe in der Basiszone bilden ein „Ladungsdreieck“, da bei x = wB die<br />

Elektronendichte im Normalbetrieb gleich Null ist. Ursache für die Abnahme der<br />

Elektronendichte ist: Elektronen bei x = wB gelangen in den Einflussbereich der in<br />

der gesperrten Kollektor-Basis Raumladungszone vorherrschenden Feldstärke und<br />

werden daher zum niedrigeren Energieniveau (verursacht durch die Sperrspannung<br />

UCB) der Kollektorzone hin „abgesaugt“. Dieser Effekt begründet mit dem Injektionsstrom<br />

A <br />

IEden eigentlichen Transistoreffekt. Voraussetzung des Transistoreffekts<br />

ist eine hinreichend kleine Basisweite wB und eine geringe Dotierung der<br />

Basiszone. Damit wird die Rekombinationsrate in der Basiszone klein gehalten.<br />

Der überwiegende Teil der vom Emitter emittierten Elektronen gelangt in den Ein-<br />

n +<br />

Isolationsrahmen<br />

p<br />

C cs

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